李荣斌
,
杨小倩
,
胡晓君
,
沈荷生
,
李明利
,
赵国华
,
何贤昶
机械工程材料
doi:10.3969/j.issn.1000-3738.2003.11.013
采用固体三氧化二硼,用热丝辅助化学气相沉积法在石墨衬底上沉积了掺硼金刚石涂层.用喇曼谱、扫描电镜及电导-温度关系研究了掺硼金刚石涂层的生长气压和掺硼浓度等主要工艺参数对涂层的形貌、结构及电学性能的影响和涂层的循环伏安特性.结果表明,石墨基金刚石涂层电极具有优良的电化学性能.
关键词:
掺硼金刚石涂层
,
石墨
,
电学与电化学性能
杨小倩
,
胡晓君
,
沈荷生
,
张志明
,
李荣斌
,
何贤昶
机械工程材料
doi:10.3969/j.issn.1000-3738.2002.01.004
采用固体三氧化二硼,在单晶硅(100)衬底上用微波CVD法生长金刚石薄膜和进行p型掺杂,对不同掺杂碳源浓度下CVD金刚石薄膜的掺杂和生长行为、薄膜表面形貌、薄膜的电性能等进行了研究.结果表明,硼确实已掺入金刚石膜中;在SEM下观察到硼掺杂金刚石膜结构致密没有孔洞;用Ti和Ag分别在掺杂金刚石薄膜表面制备电极,测试了在不同温度下电流随温度的变化.
关键词:
CVD金刚石薄膜
,
掺杂
,
电学性能
何贤昶
,
沈荷生
,
张志明
,
胡晓君
,
杨小倩
,
万永中
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2001.03.005
用CVD方法在钨丝和碳纤维上沉积金刚石薄膜。约含有10000根纤维的纤维束经特殊
处理后分离为单根。生长条件使碳纤维中心在CVD生长结束后仍保持固态。CVD金刚石在纤
维上生长的平均激活能为93.15kJ/mol。SEM照片给出了纤维涂层在不同生长条件下的表面和
中心的形貌。纤维内部的石墨碳和外部的金刚石层有很大的不同。钨丝的断裂强度和杨氏模量
的测量表明,具有金刚石涂层的钨丝的断裂强度为0.567GPa,非常接近不具有金刚石涂层的钨
丝的断裂强度。但具有金刚石涂层的钨丝的断裂应变为4.8%,比没有金刚石涂层的钨丝的断
裂应变7%要小得多。这表明了金刚石涂层可以减少钨丝的断裂应力,提高其机械性能。
关键词:
CVD金刚石
,
涂层
,
丝
,
纤维