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工艺参数对飞秒激光沉积硅基ZnO大面积均匀薄膜性能的影响

杨义发 , 江超

人工晶体学报

研究了衬底温度、真空度、激光能量、激光脉冲频率及退火处理对飞秒激光制备硅基ZnO大面积均匀薄膜的结构和性能的影响.结果表明,当激光能量为1.5mJ、脉冲频率为400 Hz、真空度为1.0 mPa、衬底温度为80℃时,所制备的薄膜质量最佳.薄膜呈高度c-轴取向,为典型的六方纤锌矿结构,晶粒沿垂直于衬底表面的方向生长;当衬底温度高于80℃时,随着温度的升高,c-轴取向度降低.80℃制备的薄膜在可见紫外区域透过率达98%,电阻率随温度升高而减小,退火后薄膜的透过率增大、电阻率升高.

关键词: 飞秒激光 , 氧化锌 , 透过率 , 电阻率

飞秒激光沉积β-FeSi2/Si半导体膜及光学性能研究

周幼华 , 陆培祥 , 杨光 , 杨义发 , 郑启光

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2007.00545

采用飞秒脉冲激光沉积法在Si(100)和Si(111)单晶基片上制备了均匀的单相β-FeSi2薄膜; 用X射线衍射(XRD), 场扫描电镜(FESEM), 能谱仪(EDX), 傅立叶红外拉曼谱仪(FTRIS)研究了薄膜的结构、组分、表面形貌和光学性能. 观察到了β-FeSi2在Si单晶基片上的生长与晶面取向有关的证据, 并在室温(2℃)下观测到β-FeSi2薄膜的光致发光, 其发光波长为1.53μm; 在氩离子514nm激光的激发下, 在192.0和243.9cm-1等位置观察到β-FeSi2的拉曼散射峰.

关键词: β-FeSi2,飞秒, 脉冲激光沉积法(PLD), 光致发光

飞秒激光沉积β-FeSi2/Si半导体膜及光学性能研究

周幼华 , 陆培祥 , 杨光 , 杨义发 , 郑启光

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2007.03.034

采用飞秒脉冲激光沉积法在Si(100)和Si(111)单晶基片上制备了均匀的单相β-FeSi2薄膜;用X射线衍射(XRD),场扫描电镜(FESEM),能谱仪(EDX),傅立叶红外拉曼谱仪(FTRIS)研究了薄膜的结构、组分、表面形貌和光学性能.观察到了β-FeSi2在Si单晶基片上的生长与晶面取向有关的证据,并在室温(20℃)下观测到β-FeSi2薄膜的光致发光,其发光波长为1.53μm;在氩离子514nm激光的激发下,在192.0和243.9cm-1等位置观察到β-FeSi2的拉曼散射峰.

关键词: β-FeSi2 , 飞秒 , 脉冲激光沉积法(PLD) , 光致发光

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