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工艺参数对钛合金微弧氧化钙磷膜层结构和成分的影响

马凤仓 , 刘平 , 李伟 , 刘新宽 , 陈小红 , 杨丽红 , 朱坚民

材料热处理学报

为了提高钛合金的表面生物活性,采用在含有钙磷的电解液中对钛合金进行了微弧氧化,得到了含有钙磷的氧化层.研究了微弧氧化溶液浓度和氧化时间对膜层孔洞的影响,讨论了氧化膜中孔洞的形成和氧化膜生长机制.结果表明,在一定的条件下,电解液浓度的升高使得微弧氧化过程中电流密度相对增大,从而使得膜层孔洞增大.随着微弧氧化处理时间的延长,膜层表面的孔洞逐渐变小,最终封闭;膜层内钙含量随微弧氧化处理时间的延长而逐渐增多;膜层内磷含量先是增加,后有下降趋势.

关键词: 钛合金 , 微弧氧化 , 涂层 , 微观结构 , 成分

Cu/CuNi薄膜热电偶薄膜制备工艺优化研究

杨丽红 , 陈皓帆

材料科学与工艺

为使磁控溅射方法制备出性能良好的Cu/CuNi薄膜热电偶,在确定Cu、CuNi薄膜临界尺寸的基础上,以基底温度、靶基距、溅射功率、工作气压为因素进行正交试验,研究制备工艺对薄膜电阻率的影响。实验结果表明:基底温度是影响薄膜电阻率大小的最主要因素,在一定范围内,温度越高,电阻率越小;确定了使Cu、CuNi薄膜电阻率最小的工艺条件。以薄膜电导理论为基础,结合薄膜微观结构和表面形貌,解释了薄膜电阻率随基底温度变化的原因。

关键词: 薄膜热电偶 , 磁控溅射 , 临界尺寸 , 正交试验 , 电阻率

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