王心悦
,
杨海丽
,
刘海鹏
,
王雁利
,
冯策
,
张志桐
,
李运刚
电镀与涂饰
在Q235钢表面脉冲电镀Zn-Ni-Mn合金,镀液组成和工艺条件为:ZnSO4·7H2O 43.1 g/L,MnSO4·H2O 59.2 g/L,NiSO4·6H2O26.3 g/L,Na3C6H5O7·2H2O 176.5 g/L,NH4Cl 30 g/L,H3BO3 30 g/L,十二烷基硫酸钠(SDS) 0.1 g/L,pH 4.5～6.O,温度30℃,平均电流密度30 mA/cm2,脉冲占空比20％,脉冲周期1 ms,时间20 min.研究了pH对合金镀层元素组成、沉积速率、表面形貌和耐蚀性的影响.结果表明,随pH增大,沉积速率减小;镀层中锰含量升高,锌、镍含量降低;耐蚀性先增强后减弱.pH为5.0时,所得Zn-Ni-Mn合金镀层平整致密,Zn、Ni和Mn的质量分数分别为85.71％、5.03％和9.26％,中性盐雾试验96 h的保护等级为5级.与Zn-Ni合金镀层(Ni质量分数为12.88％)相比,Zn-Ni-Mn合金镀层的腐蚀电位正移了85 mV,腐蚀电流密度低了约2个数量级,耐蚀性更优.
关键词:
锌-镍-锰合金
,
脉冲电镀
,
酸度
,
沉积速率
,
表面形貌
,
耐蚀性
戴志强
,
赵丽宏
,
石伟
,
刘建涛
,
李运刚
,
田薇
,
齐艳飞
材料热处理学报
采用熔盐电沉积法制备了Ni/W复合层,通过扫描电镜,辉光放电光谱仪和电子背散射衍射技术对Ni/W复合层的微观结构、复合层厚度、晶粒尺寸及小角度晶界频率进行了表征.结果表明,Ni/W复合层的断裂方式为解理断裂;当电沉积温度为1073 K时,Ni/W复合层的表面平整光滑,晶粒尺寸大小均匀;随电沉积温度升高,复合层厚度逐渐增加,Ni在钨板中的扩散系数增大,小角度晶界频率增加.
关键词:
Ni/W复合层
,
微观结构
,
复合层厚度
,
晶粒尺寸
,
小角度晶界
杨海丽
,
张玉柱
,
李运刚
,
唐国章
,
何宁
功能材料
选取无硼(NaCl-KCl-NaF-SiO2)和含硼(NaCl-KCl-NaF-SiO2-Na2B4O7)两种熔盐通过电沉积的方法在纯铁表面制备了渗硅层.利用辉光放电光谱仪、扫描电镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对渗硅层渗入元素的含量与分布、表面形貌及物相组成进行了检测分析.结果表明,硼的加入起到了明显的催渗作用,含硼试样渗层较厚,硅分布均匀;表面平整、致密,晶粒细小;含硼试样由Fe2B及Fe3Si组成,无硼试样由Fe3Si及Si在α-Fe中的固溶体α-Fe(Si)组成,硼的加入降低了Fe3Si的有序度.
关键词:
硼
,
渗硅层
,
电沉积
,
熔盐
李杰
,
李运刚
,
刘丽敏
,
蔡宗英
,
张新宇
,
刘日平
稀有金属材料与工程
利用循环伏安法、计时电势法和计时电流等方法,研究了钨在700℃的NaCl-KCl-NaF-Na2WO4熔盐中的电化学反应机理和电结晶过程.结果表明,钨的电化学反应过程为由离子扩散速率和电子迁移速率混合控制的准可逆过程,钨的电结晶过程为瞬时形核、三维半球型形核过程,XaCl:XKCl∶XaF∶XNa2WO4=2∶2∶1∶0.01的实验条件下钨离子的扩散速率为2.543×10-5 cm·s-1.
关键词:
NaCl-KCl-NaF-Na2WO4
,
钨
,
电化学还原机制
,
电结晶
杨海丽
,
何宁
,
李运刚
,
唐国章
,
张玉柱
材料导报
高硅钢(6.5%(质量分数)Si)是一种具有高磁导率、低矫顽力和低铁损等优异软磁性能的合金.但高硅钢的室温脆性和低的热加工性能严重影响了其在工业领域的应用.综述了化学气相沉积、等离子体化学气相沉积、电泳沉积、熔盐电沉积、电子束物理气相沉积及激光熔覆等6种沉积扩散法制备高硅钢的工艺和参数,从工艺路线、反应机理分析和性能的改善等几方面,概述了各种方法的研究现状和主要的优缺点,并简要论述了其发展前景,指出了今后的主要研究方向.
关键词:
沉积扩散
,
高硅钢
,
制备
李运刚
,
翟玉春
,
王娜
,
梁精龙
中国有色金属学报
用平行四电极法研究了Na2WO4-ZnO-WO3熔盐体系在x(Na2WO4)为0.40～1.00,x(ZnO)为0～0.4,x(WO3)为0～0.50组成范围内的电导率.结果表明:体系的电导率与温度的倒数呈指数关系;体系各组元对电导率的影响规律受x(ZnO)与x(WO3)比值的控制,当该比值小于1时,用ZnO逐步替代Na2WO4将导致体系的电导率增大,用Na2WO4逐步替代WO3也将导致体系的电导率增大,用WO3逐步替代ZnO将导致体系的电导率减小;当该比值大于1时,其规律正好相反;在Na2WO4含量一定的条件下,x(ZnO)与x(WO3)的比值为1时体系的电导率最大.
关键词:
Na2WO4-ZnO-WO3体系
,
电导率
,
镀钨
张颖异
,
李运刚
,
师学峰
,
齐渊洪
,
邹宗树
材料热处理学报
采用渗硅工艺制备了Mo-MoSi2功能梯度材料,并利用扫描电镜、X射线衍射以及弯曲强度试验观察并分析Mo-MoSi2功能梯度材料的微观结构和断裂行为.结果表明,梯度材料由表及里的结构变化形式为表层MoSi2晶粒(尺寸为6.8 μm)+少量Si→MoSi2柱状晶粒(长度为15 μm)→过渡层(2μm)→Mo基体.该Mo-MoSi2功能梯度材料具有组织致密,MoSi2晶粒细小,梯度层与Mo基体界面结合良好等特点.Mo-MoSi2梯度材料具有良好的弯曲性能,弯曲强度为1025 MPa,断裂挠度为1.87 mm,弹性模量为26.6 GPa.在保证Mo基体强度的同时,MoSi2功能梯度涂层显著提高了Mo基体塑性性能.Mo-MoSi2梯度材料的弯曲断裂形式主要为沿晶断裂和穿晶断裂两种形式.过渡层和MoSi2涂层形成是Mo-MoSi2功能梯度材料断裂韧性提高的主要原因.
关键词:
渗硅
,
Mo-MoSi2
,
功能梯度材料
,
微观结构
,
弯曲强度
