梁戈
,
郑彬娜
,
蒋百灵
,
李玉庆
兵器材料科学与工程
doi:10.3969/j.issn.1004-244X.2007.04.004
采用非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅衬底上沉积类石墨碳膜(GLC),研究基体负偏压对GLC膜的组织形貌及性能的影响.结果表明:基体偏压影响镀层表面形貌,-30 V下的镀层表面为较小颗粒状组织;-65 V下的镀层表面均匀致密,无明显颗粒组织;-90 V下的镀层颗粒边界趋于明显;-120 V下的出现大小不均匀的颗粒.沉积速率在-65 V前保持平稳,-90 V时下降为0.25 μm·h-1.随偏压的增加,Ar元素含量先增加后降低.
关键词:
非平衡磁控溅射
,
偏压
,
形貌
,
沉积速率
白力静
,
蒋百灵
,
肖继明
,
文晓斌
,
李玉庆
材料研究学报
doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2006.01.012
分析了CrTiAlN镀层的组织,研究了CrTiAlN镀层对M2高速钢刀具切削性能的影响.结果表明:CrTiAlN镀层提高了M2基高速钢刀具的切削性能.CrTiAlN镀层具有良好的高温稳定性能,能避免红硬性不足引起的刀具失效;CrTiAlN镀层与M2基体的结合较强,具有稳定结构,能避免抗压强度下降引起的刀具失效.
关键词:
材料表面与界面
,
CrTiAlN镀层
,
切削性能
,
热稳定性
