崔新强
,
李海兵
,
李国卿
,
蒋宝财
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2010.01.014
为提高石英玻璃表面金属化膜层与基底的结合强度,利用金属蒸发真空弧(MEVVA)离子源引出的Ti离子对石英玻璃及镀Ti膜石英玻璃进行离子注入,剂量选择3×10~(16),5×10~(16) ion/cm~2,模拟分析了注入离子能量的分布,采用卢瑟福背散射分析了注入Ti离子在基体中的深度分布,利用划痕实验机对比了镀Ti膜石英玻璃经Ti离子注入前后的膜基结合强度.实验结果表明:石英玻璃经Ti离子(5×10~(16) ion/cm~2)注入后,钛在基体中呈高斯分布,最大浓度分布在15～35 nm范围内;镀Ti膜石英玻璃经Ti离子(5×10~(16) ion/cm~2)注入后,最大浓度分布在5～15 nm范围内,注入离子穿透薄膜进入基材内部.Ti离子注入剂量为5×10~(16) ion/cm~2时,膜基的结合强度比未注入样品提高了90%.
关键词:
Ti离子
,
离子注入
,
镀Ti膜石英玻璃
,
结合强度
李海兵
,
徐勇军
,
蔡其文
,
涂伟萍
,
廖俊旭
中国表面工程
doi:10.11933/j.issn.1007-9289.2016.03.005
采用磁过滤阴极真空弧沉积(FCVAD)与磁控溅射(MS)两种技术在玻璃上制备厚度分别为75 nm和165 nm的Glass/Al高反射薄膜,利用Lambda 950分光光度计、扫描电子显微镜、原子力显微镜、附着力测试仪、摩擦试验机和加速老化试验箱分别表征薄膜的反射率、表面形貌、粗糙度、附着力、耐摩擦和耐老化性能,通过薄膜性能评估分析两种技术制备高反射膜性能的差异.结果表明:在双方优化工艺下,FCVAD制备的薄膜表面形貌和附着力优于MS薄膜;FCVAD制备的75 nm和165 nm薄膜反射率比同厚度MS薄膜高出3.3％～4.2％;75 nm厚的薄膜方均根粗糙度明显小于同厚度的MS薄膜;FCVAD制备的75 nm薄膜老化后反射率仅下降1.2％,而MS同厚度薄膜反射率下降了3.3％～4％.说明FCVAD在制备高反射膜方面比磁控溅射更有优势.
关键词:
光学薄膜
,
物理气相沉积
,
磁过滤阴极真空弧沉积
,
磁控溅射
,
高反射膜
崔新强
,
陈佳
,
李海兵
表面技术
目的：通过 SRIM 程序模拟,对石英玻璃金属化工艺进行优化。方法对不同情况界面进行对比分析,配合 SRIM 程序模拟,得出理想的金属化界面,提出通过增加阻挡层的方法来得到这种界面。分析 SRIM 程序模拟结果,选取阻挡层分别为5,10,15,20 nm 四种厚度,模拟能量20 keV 的 Ti 离子注入不同厚度阻挡层样品中的射程分布,获取合适的阻挡层厚度,并利用高低温冲击方法进行验证。结果合适的阻挡层厚度范围为10~15 nm,在此范围内,注入的 Ti 离子最大浓度位置集中在金属化层与石英玻璃之间的界面附近。结论利用 SRIM 程序模拟可以得出最佳的阻挡层厚度范围,提高金属化层的性能。
关键词:
蒙特卡洛
,
金属化
,
离子注入
