许士文
,
徐悟生
,
李宣东
,
徐玉恒
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2004.03.005
在LiNbO3晶体中掺入In2O3和Er2O3,利用提拉法生长了In:Er:LiNbO3晶体,获得了In和Er在晶体中的分凝系数.通过测试晶体的吸收光谱和抗光损伤能力,确定In:Er:LiNbO3晶体中In的掺杂阈值浓度为～3mol%,In(3mol%):Er:LiNbO3晶体的抗光损伤能力比Er:LiNbO3提高3个数量级以上.研究了In的掺入使Er:LiNbO3晶体的吸收边移动和抗光损伤能力提高的机理.
关键词:
In:Er:LiNbO3
,
晶体生长
,
光损伤
,
阈值浓度
李宣东
,
吴晓宏
稀有金属
doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2003.06.001
在不同的电流密度下(5, 10, 15 A*dm-2), 微等离子体氧化法在钛基体上产生了多孔的二氧化钛陶瓷膜. 所得膜层被用于降解若丹明B, 有一定的光催化活性, 当电流密度为10 A*dm-2时, 所得膜层具有较高的光催化活性, 2 h去除率达90%. 经XRD和SEM分析膜层的表面形貌和结构, 发现膜层的微孔尺寸和锐钛矿型二氧化钛的含量随着电流密度增加而增加, 10 A*dm-2时所得膜的高催化活性归功于较大的比表面积及较高的锐钛矿型二氧化钛的结晶量.
关键词:
微等离子体氧化
,
TiO2膜
,
光催化活性
,
若丹明B
李宣东
,
刘惠玲
,
姜兆华
,
吴晓宏
材料科学与工艺
doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2004.01.025
选用TA1钛合金,运用微等离子体氧化技术在其表面原位生长TiO2薄膜.在(Na3PO4-Na2B4O7)电解液体系中,采用XRD、SEM对钛合金表面成膜的微观结构进行测试研究,结果表明:当配比为4:1,成膜时间60min,电流密度10A/dm2条件下制得的薄膜,该膜层中TiO2主要为锐钛矿晶型,膜层均匀,表面粗糙多孔,孔洞大小适中;同时,在电解液中掺杂一定浓度的Fe3+、Si4+离子,当掺杂量分别为0.1～0.2g/L、0.5～1.0g/L条件下制备的薄膜,用于光催化氧化降解水中的罗丹明B,可以提高其光催化活性.
关键词:
钛合金
,
微等离子体氧化
,
TiO2薄膜
,
掺杂
,
光催化
