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简单介绍了稀土抛光粉制备方法及性能,对国内外稀土抛光粉的基本生产和应用现状进行了比较和分析;通过对其应用领域的分析,介绍了稀土抛光粉在液晶等平面显示领域的应用方式,分析了稀土抛光粉产业的发展趋势,对稀土抛光粉的应用前景进行了展望.

稀土抛光粉的生产及应用

综述了稀土抛光粉的各种制造工艺及其在玻璃抛光领域的应用现状, 以稀土抛光粉不同的化学成分、粒度、用途等对稀土抛光粉进行了归纳分类, 介绍了国内外稀土抛光粉生产企业的生产规模、产品特点, 对国内外稀土抛光粉的制备工艺流程进行了归纳, 阐述了稀土抛光粉的抛光工艺及抛光机理, 重点讨论了稀土抛光粉的应用领域, 预测了稀土抛光粉市场的未来, 对稀土抛光粉的应用进行了展望.

关键词: 稀土 , 稀土抛光粉 , 制备 , 应用

无氟铈基稀土抛光粉制备过程的研究

杨国胜 , 谢兵 , 任慧平 , 李学舜 , 黄绍东

稀土 doi:10.3969/j.issn.1004-0277.2008.02.010

以碳酸铈为原料制备了无氟铈基稀土抛光粉实验样品,并采用激光粒度仪、X射线衍射仪和透射电子显微镜等分析了无氟铈基稀土抛光粉制备过程的组织结构变化.结果表明,制备的无氟铈基稀土抛光粉是一种在CeO2中固溶Ce3+的固溶体,其焙烧过程中产生新相的相变阻力的主要因素可能为总的界面能.

关键词: 无氟 , 铈基 , 稀土 , 抛光粉 , 制备

光学玻璃抛光用稀土抛光粉的制备

黄绍东 , 刘铃声 , 李学舜 , 李培忠 , 郭殿东

稀土 doi:10.3969/j.issn.1004-0277.2002.06.013

以碳酸稀土为原料制备稀土抛光粉,研究了焙烧、分级等工艺条件对制备光学用高性能稀土抛光粉的影响.通过抛光机理,分析影响抛光粉抛光能力的因素,从而找出最佳工艺条件,生产出适合光学玻璃抛光的高性能稀土抛光粉.

关键词: 碳酸稀土 , 稀土抛光粉 , 制备

稀土抛光粉颜色的测定及影响因素

李学舜 , 谢兵 , 杨国胜 , 吴文远 , 涂赣峰

稀土 doi:10.3969/j.issn.1004-0277.2007.01.008

基于Hunter R S提出的Lab空间色彩体系建立了稀土抛光粉颜色的定量表示方法.该方法可以明确表示出稀土抛光粉的明度、色调等特征.并且针对少钕碳酸稀土生产的稀土抛光粉影响颜色变化的几个因素进行了研究,找出了焙烧温度及焙烧时间对抛光粉色度的影响关系,为将来把抛光粉色度参数引入到稀土抛光粉性能评价和控制指标提供了可能.

关键词: 稀土抛光粉 , 色度 , 定量 , 测定 , 因素

TCE高性能稀土抛光粉的制备及影响因素的研究

李学舜 , 崔凌霄 , 杨国胜 , 黄绍东 , 郭殿东

稀土 doi:10.3969/j.issn.1004-0277.2003.06.014

研究了高铈稀土抛光粉的制备方法,并讨论分析了制备过程中,湿式粉碎时间、烧成条件和添加剂等因素的影响作用.

关键词: 稀土 , 氧化铈 , 抛光粉 , 制备 , 影响因素

CeO2-B4C-C体系的高温化学反应及相组成研究

徐璟玉 , 吴文远 , 边雪 , 涂赣峰 , 李学舜 , 杨国胜

稀土 doi:10.3969/j.issn.1004-0277.2008.05.003

采用XRD和TG-DTA方法对CeO2 -B4C-C体系的高温化学反应及相组成进行了研究.结果表明,650℃～910℃时, CeO2同B4C生成CeBO3、CeBC和B;1270℃～1309℃时, CeO2同B4C生成CeBO3、B和CeB4,以及CeBO3、CeBC和B4C生成CeB4;在以上两个温度区间内,碳的作用很小.1317℃～1370℃时,CeBO3、B4C和C生成CeB4和B;1371℃～1420℃时,CeO2、B4C和C生成CeB6和CO;在以上两个温度区间内,碳的作用显著. 1460℃的高温下,CeB4和B进一步反应生成CeB6,此时CeB6相占主要地位,其生成率随反应时间延长而增加.

关键词: 高温化学反应 , 相组成 , 硼化铈 , 碳化硼 , 氧化铈

碳酸稀土晶粒粉碎过程计算机数值模拟

李学舜 , 杨国胜 , 吴文远 , 涂赣峰

稀土 doi:10.3969/j.issn.1004-0277.2005.06.004

阐述了晶粒破碎原理和激光粒度仪的测试原理,通过碳酸稀土晶粒的研磨实验,分析讨论了碳酸稀土晶粒研磨过程中,粒度变化的规律,运用大量的实验数据,使用三次样条插值计算的方法,并用Matlab计算机语言,就粒度分布随时间变化关系编写了计算机模拟程序.实验结果表明,计算机程序结构合理,模拟数值准确,可以指导工业生产实际.

关键词: 碳酸稀土 , 粉碎过程 , 数值模拟