孙燕
,
李莉
,
孙媛
,
李婧璐
,
李俊峰
,
徐继平
稀有金属
doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2009.06.024
随着大规模集成电路的快速发展, 硅片表面微粗糙度对于器件制造的影响也越来越受到人们的重视. 介绍了几种测量硅片表面微粗糙度的测试方法, 并将它们分成三类, 简单阐述了每一类测试方法的测试原理, 影响测试结果的因素, 从实际应用的角度详细阐述了这三类测试方法的适用情况、通过详细的测试数据及图形对这三类测试方法进行了分析, 并对这三类测试方法进行了比较. 最后简单介绍了纳米形貌和硅片表面微粗糙度之间的关系.
关键词:
表面微粗糙度
,
测量
,
硅片
