李加东
,
宣明
,
吴一辉
,
张平
,
王淑荣
,
刘永顺
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2008.02.012
研究了一种可用于微反射镜制作的光亮镀镍工艺.分析了微小面积电镀时出现边缘效应的问题,提出了增加牺牲结构的方法提高沉积速率并降低电镀边缘效应.通过脉冲微电镀实验,讨论了电流对电镀边缘效应的影响,同时分析了影响镀层表面质量的因素,得出了一组具有参考价值的电镀参数,电镀出了长620μm、宽500μm、厚2μm的微反射镜表面结构,经测量计算,该条件下,镍的生长速度约为0.1μm/min,表面平均粗糙度约为4.376nm.
关键词:
光亮镀镍
,
微反射镜
,
微电镀
,
边缘效应
