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La对AZ91D镁合金力学性能和腐蚀性能的影响

樊昱 , 吴国华 , 高洪涛 , 李冠群 , 翟春泉

金属学报

镁合金AZ91D中加入质量分数为1%的La时, 合金在常温下的抗拉强度和延伸率分别增大了21%和101.2%, 并且腐蚀速率下降为原AZ91D的47.2%。其中力学性能的提高主要是由于加入La后形成了(Al, Mg)11La3强化相，同时, 细化了相。耐蚀性的提高则是由于La的加入形成了具有类网状结构的相, 这种类网状结构的相能有效地抑制腐蚀过程的进行, 从而提高了镁合金的耐蚀性。当La加入量进一步增大时, 合金力学性能缓慢增大，但其耐蚀性却明显降低, 特别是当La达到2%时，合金的腐蚀速率甚至高于原合金的腐蚀速率。这主要是由于过多的La导致镁合金基体相的Al含量大大降低, 从而降低了镁合金的耐蚀性。

关键词: 镁合金 , null , null

镁合金的腐蚀研究现状与防护途径

李冠群 , 吴国华 , 樊昱 , 丁文江

材料导报

论述了耐蚀镁合金的研究现状,综述了镁合金的腐蚀类型、杂质和合金元素对镁合金耐蚀性能的影响,以及几种典型的表面处理工艺,总结了提高镁合金耐蚀性能的途径,指出了耐蚀镁合金的主要发展方向.

关键词: 镁合金 , 腐蚀 , 防护设计 , 综述

靶成分和溅射参数对碳化钒薄膜微结构与力学性能的影响

沈洁 , 李冠群 , 李玉阁 , 李戈扬

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2012.00536

为了提高碳化物靶溅射薄膜的结晶程度和相应的力学性能, 采用等化学计量比的VC靶(n(C):n(V)=1:1)和富V的VC靶(n(C):n(V)=0.75:1)通过磁控溅射方法制备了一系列VC薄膜, 利用EDS、XRD、SEM和微力学探针研究了靶成分、溅射气压和基片温度对薄膜化学成分、微结构和力学性能的影响. 结果表明, 对于等化学计量比的VC靶, 在Ar气压为2.4~3.2 Pa的范围内可获得结晶程度和硬度较高的VC薄膜, 其最高硬度为28 GPa. 而采用富V的VC靶时, 在较低的Ar气压(0.6~1.8 Pa)下就可获得结晶程度高的VC薄膜, 其硬度达到31.4 GPa. 可见, 相对于溅射参数的Ar气压和基片温度, 靶的成分对于所获薄膜的成分、微结构和力学性能影响更显著, 因而适当提高靶中金属组分的含量是获得结晶良好且具高硬度的VC薄膜更为有效的途径.

关键词: 碳化钒; 薄膜; 微结构; 力学性能; 磁控溅射

反应磁控溅射碳化铪薄膜的微结构与力学性能

许辉 , 祝新发 , 张晶晶 , 周颐辛 , 李冠群 , 李戈扬

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2010.01.002

为满足不同加工方式和加工条件下刀具对涂层的特殊要求,获得硬度高和耐摩擦性能优异的刀具涂层,采用反应磁控溅射方法制备了一系列不同碳含量的碳化铪薄膜.利用EDX,XRD,SEM,AFM和微力学探针表征了薄膜的微结构和力学性能,研究了C_2H_2分压(Ar和C_2H_2混合气体)对薄膜成分、相组成、微结构以及硬度和弹性模量的影响.结果表明,反应磁控溅射可以方便地制备碳化铪薄膜,但是,只有在C_2H_2分压为混合气体总压约3.0%附近很窄的范围内才可获得高硬度和高弹性模量的单相碳化铪薄膜,其最高硬度和弹性模量分别为27.9 GPa和255 GPa;低C_2H_2分压下所得薄膜由金属Hf和HfC两相组成,硬度较低;而过高的C_2H_2分压将导致薄膜形成非晶态,其硬度和弹性模量亦随之降低.

关键词: 碳化铪 , 硬质薄膜 , 微结构 , 力学性能 , 磁控溅射

La对AZ91D镁合金力学性能和腐蚀性能的影响

樊昱 , 吴国华 , 高洪涛 , 李冠群 , 翟春泉

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2006.01.007

镁合金AZ91D中加入质量分数为1%的La时,合金在常温下的抗拉强度和延伸率分别增大了21%和101.2%,并且腐蚀速率下降为原AZ91D的47.2%.其中力学性能的提高主要是由于加入La后形成了(Al,Mg)11La3强化相,同时,细化了β相.耐蚀性的提高则是由于La的加入形成了具有类网状结构的β相,这种类网状结构的β相能有效地抑制腐蚀过程的进行,从而提高了镁合金的耐蚀性.当La加入量进一步增大时,合金力学性能缓慢增大,但其耐蚀性却明显降低,特别是当La达到2%时,合金的腐蚀速率甚至高于原合金的腐蚀速率.这主要是由于过多的La导致镁合金基体α相的Al含量大大降低,从而降低了镁合金的耐蚀性.

关键词: 镁合金 , La添加 , 力学性能 , 腐蚀

靶成分和溅射参数对碳化钒薄膜微结构与力学性能的影响

沈洁 , 李冠群 , 李玉阁 , 李戈扬

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2012.00536

为了提高碳化物靶溅射薄膜的结晶程度和相应的力学性能,采用等化学计量比的VC靶(n(C)∶n(V)=1∶1)和富V的VC靶(n(C)∶n(V)=0.75∶1)通过磁控溅射方法制备了一系列VC薄膜,利用EDS、XRD、SEM和微力学探针研究了靶成分、溅射气压和基片温度对薄膜化学成分、微结构和力学性能的影响.结果表明,对于等化学计量比的VC靶,在Ar气压为2.4～3.2 Pa的范围内可获得结晶程度和硬度较高的VC薄膜,其最高硬度为28 GPa.而采用富V的VC靶时,在较低的Ar气压(0.6～1.8 Pa)下就可获得结晶程度高的VC薄膜,其硬度达到31.4 GPa.可见,相对于溅射参数的Ar气压和基片温度,靶的成分对于所获薄膜的成分、微结构和力学性能影响更显著,因而适当提高靶中金属组分的含量是获得结晶良好且具高硬度的VC薄膜更为有效的途径.

关键词: 碳化钒 , 薄膜 , 微结构 , 力学性能 , 磁控溅射

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