迟振华
,
王天生
,
漆汉宏
,
于栋利
,
何巨龙
,
刘世民
,
田永君
,
李东春
物理测试
doi:10.3969/j.issn.1001-0777.2003.04.002
探索了采用化学气相沉积法,在LaAlO3单晶基片上原位制备了MgB2超导薄膜.X射线衍射(XRD)分析表明薄膜的相纯度不理想,扫描电子显微镜(SEM)观察表明薄膜的表面比较粗糙,用标准四引线法测得薄膜的起始转变温度(TConset)为30 K,零电阻温度(TCO)为18 K.
关键词:
二硼化镁
,
超导薄膜
,
化学气相沉积
,
原位
胡前库
,
于栋利
,
漆汉宏
,
孙雅馨
,
王天生
,
何巨龙
,
刘世民
,
李东春
,
田永君
功能材料
研究了高压Ar气氛中750℃低温下Tl2O分压对Tl2Ba2CaCu2O8超导薄膜相组成及其性能的影响.结果表明采用名义比为Tl1.9Ba2Ca2Cu3Oy的混合物作铊源时,生成的Tl2O分压达到最佳值.在该Tl2O分压下,获得了单相c取向的Tl2Ba2CaCu2O8超导薄膜,其Tc值达到108K;高于该分压时,薄膜中出现Tl2Ca3O6、Tl2O3等杂相,导致膜面粗糙度增大和Tc值下降;低于最佳Tl2O分压,薄膜中生成了Tl2Ba2CaCu2O8和Tl2Ba2Ca2Cu3O10的共生相,导致Tc值下降;而Tl2O分压的进一步降低,则薄膜在铊化中不形成超导相.
关键词:
超导薄膜
,
铊系
,
氩气
,
氧化铊
何巨龙
,
田永君
,
于栋利
,
刘世民
,
李阿丹
,
胡前库
,
李东春
金属学报
采用硼酸(H3BO3)和三聚氰胺(C3N6H6)合成单相六方B-C-N多晶粉末,用X射线衍射(XRD)、透射电镜(TEM)、高分辨电镜(HREM)和电子能量损失谱(EELS)对合成产物的结构、晶体学参数、成分等进行了分析.结果表明,H3BO3和C3N6H6的配比对产物的组成有较大影响.当二者的质量比为1:2时,可以得到单相六方B-C-N多晶固溶体,其晶格参数a=0.251 nm,c=0.666 nm.从HREM照片观察到层片结晶性较好,而且晶体结构完整.用EELS分析得到产物的化学成分为(B1-xCx)N,其中x=0.09-0.18.
关键词:
B-C-N
,
null
,
null
何巨龙
,
田永君
,
于栋利
,
刘世民
,
李阿丹
,
胡前库
,
李东春
金属学报
doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2001.07.017
采用硼酸(H3BO3)和三聚氰胺(C3N6H6)合成单相六方B-C-N多晶粉末,用X射线衍射(XRD)、透射电镜(TEM)、高分辨电镜(HREM)和电子能量损失谱(EELS)对合成产物的结构、晶体学参数、成分等进行了分析.结果表明,H3BO3和C3N6H6的配比对产物的组成有较大影响.当二者的质量比为1:2时,可以得到单相六方B-C-N多晶固溶体,其晶格参数a=0.251 nm,c=0.666 nm.从HREM照片观察到层片结晶性较好,而且晶体结构完整.用EELS分析得到产物的化学成分为(B1-xCx)N,其中x=0.09-0.18.
关键词:
B-C-N
,
化学合成
,
晶体结构
刘世民
,
许哲峰
,
于栋利
,
秦国强
,
李东春
硅酸盐通报
doi:10.3969/j.issn.1001-1625.2005.06.029
对过渡辊材样品进行了在高温SO2气氛下的实际现场条件实验,采用微区X射线能谱仪(SEM-EDS)、傅立叶红外光谱仪(FTIR)测试了实验样品,系统地讨论了SO2对过渡辊材表面的作用.采用维氏显微硬度计和材料摩擦磨损试验机,对过渡辊材样品表面硬度和摩擦系数进行测定,发现在一定的SO2作用时间下的辊材样品表面显微硬度变化不大,但是表面硫化层的摩擦系数明显地降低,经分析表明表面上形成了层状结构的硫化亚铁.
关键词:
热辊
,
SO2
,
FeS
,
渗硫
何巨龙
,
田永君
,
于栋利
,
刘世民
,
李东春
物理测试
doi:10.3969/j.issn.1001-0777.2001.04.006
采用化学法合成了乱层石墨结构B-C-N化合物,在不同温度下进行高温处理后,经X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、高分辨电子显微镜(HREM)和X射线能谱(EDX)对合成产物的结构、晶体学参数、成分等进行分析.结果表明,处理温度对乱层石墨结构B-C-N化合物的晶化有较大影响.随处理温度增加,B-C-N化合物由乱层石墨结构向多晶体转变.1600℃处理后可以得到纯六方B-C-N多晶固溶体,晶格参数为a=0.251 mm,c=0.666 mm.EDX测定出晶化后B-C-N化合物的成分为B0.41C0.09N0.50.
关键词:
六方BCN
,
化学合成
,
晶格参数
王天生
,
于栋利
,
田永君
,
何巨龙
,
李东春
,
李林
金属学报
doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2000.11.019
用氮离子束分别原位溅射Ti和石墨靶的方法制备了CNx/TiNy多层膜.用X射线光电子谱分析CNx层中C和N的键合状态,用透射电镜观察薄膜中的相形貌,用电子衍射和X射线衍射的方法分析相的结构.结果表明,CNx层中主要有N-sp2C和N-sp3C两种键合状态,薄膜中观察到的C-N化合物尺寸为10-60 nm的晶体颗粒,其衍射数据可用立方C3N4结构标定,证实了该薄膜中存在立方C3N4化合物
关键词:
C-N化合物
,
离子束溅射
