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梯度基体负偏压真空多弧离子镀沉积TiN涂层及其力学性能

曾华智 , 王海 , 沈军

表面技术 doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.02.012

目的:通过梯度基体负偏压沉积工艺,获得综合性能优良的TiN涂层。方法采用多弧离子镀工艺,在0~-180 V连续变化的梯度基体负偏压参数下沉积梯度TiN涂层。通过X射线衍射仪和扫描电子显微镜对涂层的物相结构和形貌进行分析,通过纳米压痕和纳米划痕对涂层的力学性能进行系统研究。结果与无梯度沉积的涂层相比,梯度基体负偏压沉积TiN涂层的(111)晶面衍射峰减小,厚度增加,表明涂层的沉积速率增大。经测试,梯度涂层的断裂临界载荷Lc2=215.21 mN,硬度值H=31.2 GPa,弹性模量E=498 GPa,塑性变形临界载荷Ly=81.65 mN;无梯度沉积涂层的Lc2=248.63 mN,H=29.6 GPa,E=452 GPa,Ly=23.39 mN。二者相比之下,梯度涂层虽然断裂临界载荷有所减小,但硬度值和弹性模量均有所增大,并且塑性增大,塑性变形临界载荷大幅增加,综合力学性能提高。结论梯度基体负偏压沉积工艺改变了常规的单一参数设置,在沉积过程中,基体负偏压对涂层生长的影响不断改变,获得的涂层具有结构上的梯度变化,从而力学性能得到了改善。

关键词: 多弧离子镀 , TiN , 梯度涂层 , 纳米压痕 , 纳米划痕 , 力学性能

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