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戴雯琦 , 居建华 , 许俊芬 , 夏义本
材料科学与工艺 doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2000.02.023
通过偏压微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD) 成功地在Si(100)上生长出具有[100]织构的金刚石薄膜.阐述了实验过程,讨论了偏压对 [100]织构金刚石薄膜成核与生长条件的影响,偏压有助于成核密度的提高和有利于[100 ]织构生长.采用SEM、Raman光谱等对所得样品进行了表征.
关键词: 金刚石薄膜 , MPCVD , 偏压 , 织构生长
许俊芬 , 居建华 , 戴雯琦 , 夏义本
功能材料
描述了利用射频等离子体溅射法,采用不同阴极在衬底Si片上形成类金刚石薄膜的杂质含量及杂质对厚度和硬度的影响分析与结果;比较了DLC膜的力学性能在有无金属杂质情况下的异同,分析和计算了其厚度与硬度与制备参数间的关系,得出利用石墨作电极能制备出质量较好的DLC膜,初步探讨了在Si衬底上沉积高硬度和强附着度类金刚石薄膜的有关工艺条件,并在理论上对这一结果进行了解释.
关键词: 类金刚石薄膜 , 厚度 , 硬度 , 阴极靶
