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张玉芹 , 邓小玲 , 刘行冰 , 符春林 , 成计平
硅酸盐通报
磁控溅射技术在薄膜制备领域有着广泛的应用.本文在介绍磁控溅射法制备薄膜材料的基本原理和流程基础之上,详细分析了溅射工艺参数(溅射功率、温度、溅射气压、氧分压)对BST薄膜性能的影响,并提出了研究中需要解决的一些问题.
关键词: 磁控溅射 , BST薄膜 , 工艺参数 , 性能
