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磁控溅射ITO薄膜的退火处理

王军 , 成建波 , 陈文彬 , 杨刚 , 蒋亚东 , 蒋泉 , 杨健君

材料科学与工艺 doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2008.02.029

采用直流磁控溅射方法在室温下玻璃基板上制备ITO(Indium tin oxide)薄膜,并在真空中不同温度(100℃～400℃)下退火处理.研究了退火对薄膜表面形貌、电光特性的影响.XRD测试发现薄膜在200℃退火后结晶,优选晶向为(222).随退火温度升高,方块电阻迅速下降,表面更加平整,薄膜在可见光范围平均透过率提高到85%.

关键词: 薄膜 , 氧化铟锡(ITO) , 退火 , 直流磁控溅射 , 方阻

多晶硅薄膜的工艺研究

王军 , 祁康成 , 成建波

材料热处理学报 doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2004.04.002

研究了制备性能优良非晶硅薄膜的工艺参数,对薄膜进行高温退火得到多晶硅薄膜.用X射线衍射仪(XRD)和扫描电镜(SEM)观察薄膜的结晶情况以及晶粒的大小.结果表明:退火温度越高,退火时间越长,得到多晶硅薄膜的比例越高,晶粒也相对较大;薄膜在(111)方向上优先结晶,晶粒大小可以达到1μm,与理论值做了比较.

关键词: 多晶硅 , 薄膜 , 等离子体增强化学气相沉积(PECVD) , 退火

透反液晶显示器

王琼华 , 成建波 , 杨刚

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2004.06.008

兼有透射型和反射型液晶显示优点的透反液晶显示可工作于透射和反射两种显示模式,它将广泛应用于手机、PDA等通讯领域.透反液晶显示可分为单盒厚和双盒厚两大类,又可分为扭曲型和非扭曲型两种.为了研制出高性能透反液晶显示器,需解决透反两个显示区的响应时间、光效率、色饱和度的差异以及视角等问题.文中介绍了Sharp公司开发的2种基本的透反液晶显示,以及3种新近开发的高性能透反液晶显示.随着应用市场的扩大和技术的进步,透反液晶显示将会进一步得到发展.

关键词: 透反液晶显示 , 透射液晶显示 , 反射液晶显示

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