惠迎雪
,
樊慧庆
,
刘卫国
,
牛小玲
材料科学与工程学报
采用溶液流延法制备了β相聚偏二氟乙烯(PVDF)铁电聚合物薄膜,研究了不同热处理条件和不同溶剂对薄膜晶相结构形成的影响.利用X射线衍射仪、傅立叶红外光谱仪(FTIR)对晶形结构进行了分析.结果表明,在合适的温度条件下,基片的热诱导作用有利于β晶相形成,而在较高温度下主要形成γ晶相,较低的温度将会抑制PVDF结晶;溶剂的溶度性能对薄膜的结晶能力和晶型的形成有很大影响,采用对PVDF溶解能力较强的溶剂DMSO所制备的薄膜中晶区内β晶型的含量高但其结晶能力差,而采用溶解能力较弱的DMAc溶剂虽然提高了薄膜的结晶度,却降低了β晶型的含量.
关键词:
聚合物
,
PVDF
,
β相
,
结晶度
尹路
,
郭天文
,
王辉
,
赵雯
,
弥谦
,
惠迎雪
稀有金属材料与工程
采用脉冲电弧离子镀膜法在纯钛表面制备类金刚石膜(DLC)并在口内使用.利用表面粗糙度仪、分光光度仪、扫描电镜分别研究镀制类金刚石膜、氮化钛膜、阳极氧化膜以及未表面处理的齿科纯钛试件表面白色念珠菌黏附情况和细胞毒性.结果表明,类金刚石膜表面菌数最少,粗糙度增加值和反射率下降值最小.类金刚石膜表面的L-929细胞增值良好.类金刚石膜可以显著降低纯钛义齿表面的白色念珠菌黏附量,可以承受日常口腔刷牙的磨耗应用于人体,对齿科修复体具有大的潜在应用价值.
关键词:
纯钛
,
类金刚石膜
,
真菌黏附
,
细胞毒性
杨陈
,
樊慧庆
,
焦岗成
,
惠迎雪
稀有金属材料与工程
采用等离子辅助电子束蒸发,在Si(100)衬底上沉积La2O3薄膜.随后对非晶的沉积态薄膜在750℃和900℃分别退火1 h.实验结果表明,采用等离子辅助电子束蒸发,可以获得非晶态的La2O3薄膜;经750℃热处理后,薄膜部分晶化;经900℃热处理后,薄膜显著晶化,晶粒尺寸明显增大,并沿(002)方向择优取向.对薄膜I-V特性的测量结果表明,沉积态薄膜具有较小的漏电流,但随着热处理温度升高,薄膜晶化程度提高,薄膜漏电流逐渐增大;对薄膜透过率的测量结果表明,单面抛光的Si衬底上沉积La2O3薄膜,在近红外范围内有明显的增透效果,最大可达20%左右.
关键词:
La2O3薄膜
,
等离子辅助电子束蒸发
,
薄膜结构
,
I-V特性
,
透过率
惠迎雪
,
樊慧庆
,
刘卫国
材料导报
采用真空热蒸发技术在单晶硅基底上沉积PVDF薄膜.通过分析阻蒸温度对薄膜沉积速率和真空室气压变化的影响研究了PVDF镀膜过程.同时利用傅立叶变换衰减全反射红外光谱(ATR-FTIR)、X射线衍射(XRD)和差热分析(DSC)对薄膜的晶型结构进行了表征分析,结果发现,真空热蒸发技术可制备具有高度取向性的α晶相PVDF薄膜,且薄膜中不舍C=C键.相比于PVDF树脂粉末,所得薄膜的结晶度明显增大而分子量显著减小,实现了PVDF薄膜的低维化制备.
关键词:
PVDF薄膜
,
取向生长
,
真空热蒸发
,
α相
,
薄膜结构
王庆喜
,
弥谦
,
惠迎雪
材料导报
利用非平衡磁控溅射离子镀技术研究了不同氮气流量对TiN薄膜结构、摩擦性能、附着力及显微硬度的影响.研究结果表明:N2流量对TiN薄膜的择优取向有很大影响,N2流量较小时,TiN薄膜显示出{111}择优取向生长趋势,在N2流量为15sccm条件下沉积的TiN薄膜的(111)衍射峰强度最强,与之对应的薄膜硬度和膜基结合强度最高,耐磨性能也最好;N2流量的大小对TiN薄膜的沉积速率和摩擦系数影响显著,并随N2流量增加都有较明显的下降趋势.
关键词:
非平衡磁控溅射
,
氮化钛薄膜
,
氮气流量
尹路
,
惠迎雪
,
姚江武
稀有金属材料与工程
采用等离子喷涂技术在纯钛表面制备氮硅锆-羟基磷灰石(ZrSiN-HA)复合涂层并植入实验动物下颌骨.利用扫描电镜、电子万能材料试验机对比检测ZrSiN-HA、ZrSiN、HA与纯钛对照4组涂层的骨结合力,观测各组断裂区域的形貌,并分析复合涂层的表面形貌;用电化学腐蚀测试系统对比检测4组涂层的耐腐蚀性.试验结果表明,种植体表面喷涂ZrSiN-HA后较单纯喷涂HA的表面更加致密,结晶化明显;ZrSiN-HA涂层与其他涂层相比骨结合力最高,耐腐蚀性能最强.ZrSiN-HA涂层的应用有利于种植体的长期固位,可以应用于人体,对齿科修复体具有巨大的潜在应用价值.
关键词:
纯钛
,
种植
,
涂层
,
羟基磷灰石
,
骨结合
杜玉军
,
杨陈
,
惠迎雪
材料导报
TiO2作为高介电常数材料已被广泛研究.为了防止TiO2与Si基底发生反应,在Si与TiO2之间加入与TiI2结构相似热稳定性好的ZrO2作为过渡层.改变TiO2薄膜厚度,并在900℃对薄膜进行1h退火处理.通过XRD分析显示,随着TiO2厚度减小,各衍射峰强度逐渐降低,但各峰位及其相对强度无明显变化.通过SEM可以发现,热处理前各薄膜均无裂纹和孔洞.热处理后,TiO2厚度为150m及80nm的薄膜平整光滑无裂纹孔洞,晶粒排列致密晶界清晰,当TiO2厚度降为30nm时,薄膜仍平整光滑,只在晶界上出现因热处理而产生的缩孔.
关键词:
TiO2薄膜
,
ZrO2过渡层
,
电子束蒸发
,
薄膜厚度
,
薄膜结构
