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基于ECR-PEMOCVD生长的稀磁半导体(Ga,Mn)N的特性

宋世巍 , 秦福文 , 吴爱民 , 何欢 , 王叶安 , 姜辛 , 徐茵 , 顾彪

功能材料

利用电子回旋共振-等离子体增强金属有机物化学气相沉积(ECR-PEMOCVD)技术,在蓝宝石(α-Al2O3)衬底上生长出Mn含量约为3%的(Ga,Mn)稀磁半导体薄膜.利用反射高能衍射(RHEED)、原子力显微镜(AFM)和X射线衍射(XRD)表征(Ga,Mn)N薄膜的表面形貌和结构特征.(Ga,Mn)N薄膜具有良好的(0002)择优取向和纤锌矿结构,表面形貌是由许多亚微米量级的晶粒按一致的取向规则堆砌而成.光致发光(PL)测量发现3.27eV附近出现施主-受主对(DAP)发光峰.超导量子干涉仪(SQUID)测量表明薄膜在室温下具有铁磁性,没有发现超顺磁性和自旋玻璃态,居里温度可达400K.

关键词: (Ga,Mn)N , ECR-PEMOCVD , 室温铁磁性 , 居里温度

GaAs衬底上立方GaN的低温生长

顾彪 , 徐茵 , 秦福文 , 丛吉远 , 张砚臣 , 孙捷

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.1998.02.016

研究了以 (001) GaAs为衬底的用ECR-PAMOCVD法生长的立方GaN薄膜的主要性质, 阐述了实验过程与生长用设备. 在生长过程中, 衬底温度约为600℃, 反应器内压力约0.4 Pa.

关键词: 立方GaN , 低温生长 , 活化氮源 , ECR-PAMOCVD

GaN基材料生长及其在光电器件领域的应用

王三胜 , 顾彪 , 徐茵 , 秦福文 , 窦宝锋 , 杨大智

材料导报

GaN具有禁带宽度大、热导率高、电子饱和漂移速度大和介电常数小等特点,在高亮度发光二极管、短波长激光二板管、高性能紫外探测器和高温、高频、大功率半导体器件等领域有着广泛的应用前景.介绍了GaN基半导体材料的制备方法,异质结构以及在光电子和微电子器件领域的应用,并讨论了今后的发展趋势.

关键词: GaN , 外延生长 , 掺杂 , 半导体器件

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