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电沉积Zn-Ni-Sn合金工艺研究

王征 , 安茂忠 , 胡旭日 , 徐树民 , 高振国

材料工程 doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2006.04.009

采用碱性焦磷酸盐体系在电解铜箔上电镀Zn-Ni-Sn三元合金可改善铜箔表面的综合性能.通过研究主盐含量、pH值、温度、电流密度对镀层质量的影响,选择了合适的添加剂,并对其极化行为进行了研究,优化确定了电镀Zn-Ni-Sn三元合金的镀液组成和工艺条件.经过处理后的电解铜箔耐蚀性、耐热性和粘合强度等性能指标均有明显提高.

关键词: 电解铜箔 , 电镀 , Zn-Ni-Sn三元合金 , 极化行为

高档电解铜箔研究及产业化

徐树民 , 冷大光

材料导报

介绍了招远电子材料厂开展高档电解铜箔课题研究的过程,解决的主要技术难题,取得的成果以及成果转化后所取得的经济效益,并探讨了铜箔研究发展趋势及下一步研究开发工作的重点.

关键词: 高档铜箔 , 技术研究 , 产业化

电解铜箔生产中电镀铬与电镀镍钼合金的性能对比

王海振 , 胡旭日 , 王维河 , 徐树民

电镀与涂饰

对电镀镍钼合金代替六价铬电镀工艺进行了研究,测试了表面处理前后电解铜箔在高温(180℃)和常温下的抗拉强度及延伸率,对比研究了电解铜箔表面电镀铬和电镀镍钼合金后的耐高温(180~210℃)氧化性、常温(80℃)抗氧化性能,以及蚀刻后或蚀刻加盐酸浸泡30 min后的剥离强度和劣化率.研究发现,表面处理不会影响电解铜箔的延伸率和抗拉强度.电镀镍钼合金试样的高温抗氧化性比电镀铬好,常温抗氧化能力以及耐酸碱腐蚀性能与电镀铬试样相当,蚀刻后的剥离强度和劣化率稍低,但仍符合浸于盐酸前后的剥离强度都不低于1.80N/mm、劣化率小于5.0%的生产要求.本研究为电镀镍钼合金代替电镀铬工艺的实现提供了依据.

关键词: 电解铜箔 , 电镀 , , 镍钼合金 , 抗氧化 , 耐蚀性

挠性印刷电路板用超低轮廓铜箔的表面处理工艺

徐树民 , 杨祥魁 , 刘建广 , 宋召霞 , 陈晓鹏

电镀与涂饰

研究了挠性印制电路板(FPC)用超低轮廓(VLP)电解铜箔的表面处理工艺.在硫酸铜与硫酸的混合电解液中,以连续旋转鼓状钛筒为阴极,在50~80A/dm<'2>的电流密度下电沉积得到12μm厚的铜箔,再以(20±0.1)m/min的速度对铜箔进行表面处理:在其光面进行分形电沉积铜,然后电沉积纳米锌镍合金,再经过三价铬钝化处理并涂覆一层硅烷偶联荆.处理后的铜箔光面呈黑色,粗糙度为1.2~2.0μm,毛面粗糙度<2.5 μm,不合铅、汞、镉、砷等有害元素,具有优异的抗剥离强度以及抗氧化、耐腐蚀和蚀刻性能,可以替代同类型的进口铜箔,应用于FPC制作和高密度互联(HDI)内层板等.以该工艺生产的VLP铜箔已在FPC生产厂家获得应用.

关键词: 挠性印刷电路板 , 超低轮廓铜箔 , 表面处理 , 电解

印制板用电解铜箔后处理工艺的研究

杨培霞 , 安茂忠 , 胡旭日 , 徐树民 , 蒲宇达

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2005.08.013

研究了一种新的印制板用电解铜箔后处理工艺,依次进行电镀Zn-Ni基三元合金、铬酸盐钝化、浸有机膜等.给出了电镀Zn-Ni基三元合金和铬酸盐钝化的工艺参数,并对各影响因素进行了分析.对经过上述工艺处理的电解铜箔进行了性能测试,结果表明,经过该工艺处理的电解铜箔的耐蚀性、耐热性和与印制板基体的结合强度等均有明显提高,铜箔的抗剥强度为2.15,劣化率为1.38%.

关键词: 印制板 , 电解铜箔 , 后处理工艺

铜箔高温防氧化新工艺研究

徐树民 , 冷大光

金属学报

本文简要介绍铜箔在180℃防氧化指标要求及防氧化工艺进展情况,设计了新的钝化液组成及工艺条件,获得了较为理想的铜箔180℃防氧化性能,并在生产中得到验证对相关性能进行了测定,并对防氧化机理进行了探讨。

关键词: 铜箔 , oxidation resistance passivating film , alkaline passivating solution , null

电解铜箔镀锌工艺的研究

冷大光 , 胡京江 , 郭宗训 , 徐树民

金属学报

本文讨论了电解铜箔采用硫酸盐工艺镀锌的方法,并对工艺配方及工艺条件进行了优化研究,表明采用该工艺对电解铜箔进行镀锌,能达到质量要求,且工艺稳定,操作方便,成本低,是一种理想的镀锌钢箔生产工艺.

关键词: 电解铜箔 , sulfate , galvanizing

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