许银生
,
成俊雯
,
戚嘉妮
,
鲁珊珊
,
鲁克伦
,
徐建伟
,
邵琦芬
,
戴世勋
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2014.13510
通过真空熔融淬冷法制备了银复合的70GeS2-20In2S3-10CsI 硫系玻璃样品,利用 Z-扫描技术研究了玻璃样品在800 nm 处三阶非线性光学性质,发现引入 Ag 可提高其折射率 n 和非线性折射率γ, n 从2.204增加至2.4087,γ从23.3×10-18 m2/W增加到30.5×10-18 m2/W,此外非线性响应时间从70 fs增加到79 fs。热处理对玻璃的非线性光学性能的影响研究显示,热处理后样品的γ增加至44.3×10-18 m2/W,是As2Se3玻璃的两倍多。发现析晶后带隙变小(吸收边红移)导致非线性吸收系数β减小,使得样品的品质因子提高至3.3。Ag复合的硫系玻璃及玻璃陶瓷非线性折射率大、品质因子高、非线性响应快,有望用于全关开关等各类非线性光学器件中。
关键词:
银复合
,
非线性折射率
,
硫系玻璃
,
Z-扫描
,
非线性响应时间
闫鹏勋
,
李晓春
,
李春
,
崇二敏
,
刘洋
,
李鑫
,
徐建伟
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2006.01.029
利用自行研制的磁过滤等离子体技术(FCAP),并创造性地对衬底施加低频率周期性负偏压,在室温下的单晶硅表面上制备了高质量的非晶金刚石薄膜.用扫描电子显微镜(SEM),原子力显微镜(AFM),红外吸收光谱(IR),纳米硬度计和摩擦试验仪对制备的非晶金刚石薄膜进行了结构和性能表征.实验结果表明:制备的非晶金刚石薄膜表面十分光滑,表面粗糙度仅为0.1nm;薄膜中sp3键成份高达70.7%,对应薄膜硬度达到74.8GPa,接近金刚石的硬度;薄膜摩擦系数在0.12～0.16之间.文中也讨论了偏压类型对沉积薄膜结构的影响.
关键词:
磁过滤等离子体
,
非晶金刚石膜
,
周期性偏压
,
性能
魏智强
,
温贤伦
,
王君
,
吴志国
,
徐建伟
,
吴现成
,
闫鹏勋
稀有金属材料与工程
在Ar惰性保护气氛中,采用阳极弧放电等离子方法用自行研制的装置制备出了高纯Ni纳米粉末.研究了在制备过程中电弧电流、气体压力等工艺参数对纳米粉产率及粒度的影响.利用XRD、TEM对制得的样品的形貌、晶体结构、粒度及其分布进行测定.结果表明,适当控制某些工艺参数就能制取粒径范围在20 nm～100 nm的纳米粉,在其它工艺参数不变条件下,气压升高或电弧电流增大,都会使粒度增大,产率提高.
关键词:
阳极等离子体
,
纳米粉
,
粒度
,
工艺参数
徐建伟
,
边丽虹
,
薛强
,
曾卫东
钛工业进展
研究了固溶温度对TA19钛合金棒材显微组织和力学性能的影响规律.结果表明:随着固溶温度的升高,等轴α相含量下降较快,大致呈先快后慢的双线性下降变化趋势,而等轴α相尺寸变化较小,大致呈线性下降;β相在固溶过程中发生再结晶,且再结晶晶粒随固溶温度升高而长大.TA19钛合金棒材的抗拉强度和屈服强度随固溶温度的升高而降低,延伸率和断面收缩率基本保持在同一水平上,其强度的变化主要受滑移长度的影响,合金元素分配作用所引起的基体弱化对强度也有一定的作用.
关键词:
TA19钛合金
,
固溶温度
,
显微组织
,
力学性能
闫鹏勋
,
李晓春
,
李春
,
李鑫
,
徐建伟
中国有色金属学报
采用自行研制的磁过滤等离子体装置在单晶Si基底上制备了优质类金刚石(DLC)薄膜.运用红外光谱(IR)、扫描电镜(SEM),原子力显微镜(AFM)和纳米压痕仪对样品进行了表征和分析,着重研究了衬底偏压类型对制备薄膜的影响.结果表明:在无偏压或周期性负偏压下制备的DLC薄膜的sp3含量比连续负偏压下制备的薄膜的sp3含量要高;同时在周期性偏压下制备的薄膜表面较光滑,其表面粗糙度仅为0.1 nm,sp3含量达到66.8%,相应的纳米硬度也较高(达到80GPa).同时对相应的成膜机理进行了讨论.
关键词:
周期性偏压
,
优质DLC膜
,
磁过滤等离子体
,
硬度
徐建伟
,
曾卫东
,
刘江林
,
刘建伟
,
史一功
材料导报
利用商业有限元软件DEFORM-3D对多芯复合超导线材的拉拔过程进行有限元模拟,研究变形过程中复合超导线各亚组元的变形情况,以及拉拔速度对超导线成形的影响.分析超导线拉拔过程中等效应力、等效应变的分布规律;并且结合韧性断裂准则来预测不同位置开裂产生的可能性.总结出拉拔速度对拉拔过程的影响规律,确定了拉拔过程中的危险区域.
关键词:
拉拔
,
多芯复合超导线
,
有限元模拟
闫鹏勋
,
吴志国
,
徐建伟
,
张玉娟
,
张伟伟
,
刘伟民
无机材料学报
doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2004.06.026
在室温条件下,利用磁过滤等离子体在单晶硅和不锈钢表面上制备了性能优异的纳米结构TiN薄膜.运用原子力显微镜和掠角入射X射线衍射仪对其结构与形貌进行了表征,利用纳米压痕仪测量了TiN薄膜的硬度和弹性模量.结果表明:TiN薄膜表面光滑,致密,无柱状晶; TiN晶粒的平均尺寸为50nm,薄膜硬度达50 GPa,是传统CVD和PVD技术沉积氮化钛的两倍多;XRD衍射试验表明,纳米TiN的衍射角都普遍向小角度移动,TiN晶粒沿(111)择优生长.
关键词:
TiN
,
磁过滤等离子体
,
纳米薄膜
