徐坤山
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仇性启
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刘靖涛
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陈长标
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魏仁超
材料热处理学报
通过磁学分析和磁记忆检测,研究了应力集中和去应力热处理对磁记忆检测结果的影响.结果表明:热处理前,应力集中和缺陷尺寸共同影响磁记忆信号的变化;缺陷引起磁记忆信号发生明显变化,并且磁记忆信号随着缺陷尺寸的增加表现出线性增加的规律.试样经过去应力热处理后,磁记忆信号明显削弱,难以反应出缺陷的位置.在外载荷作用下,磁记忆信号随着外加载荷的增加呈现出指数递增的变化规律.因此,应用磁记忆检测技术进行无损检测应充分考虑被测对象热处理状态和外加载荷的影响.并且,金属磁记忆检测结果可以用来验证去应力热处理的效果.
关键词:
缺陷
,
热处理
,
应力集中
,
磁记忆