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硅化钛薄膜的制备与应用

徐向勤 , 杜军

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2007.09.009

金属硅化物因其薄膜电阻率低,熔点高,化学性质稳定,在微电子领域具有广阔的使用前景.本文系统地阐述了硅化钛的性质、制备方法(包括自对准硅化物技术及CVD技术)及其应用.对硅化钛在集成电路中的应用进行了重点介绍.

关键词: 硅化钛 , 薄膜 , 微电子 , 集成电路