朱恒伟
,
李文杰
,
张金云
,
叶欢
,
陈国安
,
吕斌
,
吕建国
材料科学与工程学报
doi:10.14136/j.cnki.issn 1673-2812.2015.05.009
采用自主研制的等离子体增强化学气相沉积(PECVD)专用设备,在玻璃容器内壁沉积SiO2薄膜,用作阻隔涂层.通过设计沉积工艺,在不同的气体流量比例、工作气压和生长时间等生长条件下制备出SiO2薄膜;通过扫描电子显微镜(SEM)测试表征薄膜的形貌和结构,评价薄膜的性能.根据表征结果分析了各种工艺参数对薄膜性能的影响,获得了较为优化的工艺参数,在玻璃容器内壁制备出较高质量的SiO2薄膜.
关键词:
PECVD
,
玻璃容器
,
内壁镀膜
,
SiO2薄膜
,
SEM表征
