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ZnS晶体中浅电子陷阱对光电子衰减过程的影响

董国义 , 窦军红 , 张蕾 , 韦志仁 , 葛世艳 , 郑一博 , 林琳 , 田少华

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2005.01.026

本文采用微波吸收法,测量了ZnS:Mn,Cu:I,Br粉末材料受到超短激光脉冲激发后,其光生电子和浅束缚电子的衰减过程.发现制备过程中Mn2+、Cu1、I-、Br-的掺杂量对光生导带电子的衰减过程有明显的影响.光生电子寿命是I-、Br-形成的浅施主能级和Cu+受主能级、Mn2+发光中心共同作用的结果.本文还测量了材料的热释光曲线,Cu+受主能级、Mn2+发光中心会影响热释光强度,证实I-、Br-形成电子陷阱对光生电子和浅陷阱中的电子寿命有延长作用,而Mn2+发光中心会起到缩短寿命的作用.

关键词: ZnS , 微波介电谱 , 热释光 , 光电子

固溶温度对 GH 2787合金组织性能的影响

张冬梅 , 国振兴 , 邰清安 , 崔传勇 , 徐玲 , 张蕾 , 姜欣 , 付一凡

材料与冶金学报 doi:10.14186/j.cnki.1671-6620.2016.03.012

研究了 GH 2787合金在不同固溶温度处理后的组织性能.结果表明,在900、940和980℃固溶处理时, GH 2787合金的晶粒尺寸分别为20、30和40μm.当固溶温度低于γ′溶解温度时, GH 2787合金中的γ′相分布均匀,并有少量针状的η相出现.900℃固溶处理时, GH 2787合金硬度、屈服强度和拉伸强度最高. GH 2787合金的主要强化方式为γ′相沉淀强化和晶界强化.

关键词: GH 2787 合金 , 固溶处理 , 组织 , 性能

低αs无机热控涂层及其空间防护作用研究

张蕾 , 严川伟 , 屈庆 , 孙刚 , 童靖宇 , 李金洪 , 曹楚南

材料工程 doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2003.05.008

介绍了两种无机热控涂层的组成工艺及性能,并讨论了影响涂层性能的因素.用LAMBDA-9分光光度计和扫描电镜(SEM)对在模拟原子氧(AO)环境中,无机热控涂层太阳光吸收率(αs)的变化和它们的防护作用进行了表征研究.结果表明,该涂层具有良好的空间稳定性和较低的αs,能有效抵御AO的侵蚀,对空间材料可起到满意的防护效果.尤其是10-3涂层的αs最低,性能最稳定.

关键词: 无机热控涂层 , AO , 吸收系数 , 性能试验

导电防腐蚀涂料性能及其影响因素

张蕾 , 沙响玲 , 张念 , 田野 , 王龙伟 , 杨燕 , 吕宝鹏

腐蚀与防护 doi:10.11973/fsyfh-201510016

以湿式电除尘极板为载体,导电防腐蚀涂料为试验原料,探寻湿式电除尘在运行过程中出现的极板腐蚀问题以及针对湿式电除尘器导电防腐蚀涂料的性能,研究涂料在不同厚度、不同涂刷次数、不同烘干时间下对涂膜硬度、附着力、电阻率等特性的影响;以及涂膜的耐酸、耐碱、耐盐和耐水性.通过理论分析及试验研究,确定涂料的防腐蚀性能参数和最佳涂抹方式.结果表明,除尘极板导电防腐蚀涂料最佳涂抹方式为涂膜的厚度不低于0.14 mm,最佳涂刷次数为3次,涂膜烘干温度为60℃,烘干时间为12 h.

关键词: 电除尘 , 导电防腐蚀涂料 , 理化性能 , 漆膜厚度 , 涂刷工艺

氟罗里硅土微柱分离富集-分光光度法测定锑

张蕾 , 林清 , 康平利 , 李新 , 徐天赐 , 宋晓艳 , 李娜

冶金分析 doi:10.3969/j.issn.1000-7571.2010.12.011

以处理过的氟罗里硅土为微柱吸附材料,采用流动注射技术进行锑的分离富集,系统地考察了氟罗里硅土微柱对Sb(Ⅲ)的吸附性能,探讨了溶液的pH值、试样流速、试样体积、洗脱液浓度和用量以及干扰离子等因素的影响.实验结果表明,pH值为5.0,试样流速为1.5mL/min时,氟罗里硅土对Sb(Ⅲ)具有良好的吸附性能,吸附率接近99%,动态饱和吸附容量为6.76 mg/g;选用5 mL 5 mol/L NaOH溶液可将吸附的Sb(Ⅲ)完全洗脱.本法的检出限(3σ)为0.085μg/mL,相对标准偏差为RSD=0.85%(n=11,ρ=10 mg/L).将本法应用于实际样品中锑的测定,结果满意.

关键词: 流动注射 , 微柱分离 , 氟罗里硅土 , , 分光光度法

隧道再生半导体激光器内部温度场的三维分布

张蕾 , 崔碧峰 , 段天利 , 马楠 , 郭伟玲 , 王智群 , 沈光地

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2008.04.015

针对隧道再生半导体激光器,建立了内部热源分布模型,利用有限元方法模拟计算了两有源区隧道再生半导体激光器瞬态和稳态三维温度分布.瞬态模拟结果表明,加电后几个s的时间内两个有源区的温升很小,在几个s到几十个ms的时间内温度上升很快,几百个ms以后温度达到稳态,与测量结果吻合.稳态模拟结果表明,稳态时温升集中在脊形电极内,靠近衬底的有源区温度始终高于靠近热沉的有源区的温度.沿腔长方向存在温差,在光反射腔面附近温度下降较快.芯片内最高温度出现在靠近衬底有源区的光出射腔面的脊形电极中心.

关键词: 半导体激光器 , 三维温度分布 , 瞬态 , 稳态 , 隧道再生

纳米TiO2表面的原位接枝聚合动力学

张蕾 , 赵中原 , 刘娜 , 张国林 , 吴秋华 , 关宏宇 , 金燕利

高分子材料科学与工程

以甲苯为溶荆,偶氮二异丁腈(AIBN)为引发剂,在纳米TiO2表面引发甲基丙烯酸丁酯(BMA)单体的聚合反应,通过红外光谱(FT-lR)、热重(TG)分析表明,纳米TiO2表面已接枝聚合上有机分子链.研究了改性后的纳米TiO2表面发生原位接枝聚合反应的动力学行为,考察了聚合反应温度、单体浓度、引发刺浓度、纳米TiO2用量等因素对聚合反应速率的影响,测定了反应级数和聚合反应的活化能.结果表明,其聚合速率方程为:Rp=k[BMA]1.00[AIBN]0.86[mTiO2]0.76,聚合反应的表现活化能Ea为135.94 kJ/mol.探讨了聚合反应机理,其聚合反应机理与自由基聚合反应机理相符合,链终止反应为单基终止与双基终止并存.

关键词: 纳米TiO2 , 甲基丙烯酸丁酯 , 接枝聚合 , 表观动力学

原子氧对金属银和有机防护涂层的侵蚀

张蕾 , 严川伟 , 屈庆 , 孙刚 , 童靖宇 , 李金洪 , 曹楚南

材料研究学报 doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2002.03.011

用光电子能谱(XPS)和扫描电镜(SEM)观测了在模拟原子氧(AO)环境中Ag及在其表面涂覆的有机防护层的表面,研究了表面的形貌和质量损失.结果表明,AO对Ag有较严重的侵蚀作用,使原来光亮的表面失去光泽,变得粗糙;采用环氧树脂、聚胺脂或醇酸树脂作为防护涂层,AO辐照后其表面形貌也发生了较大变化,表明腐蚀严重;采用有机硅作为涂层,被AO侵蚀后其表面形貌的变化甚小,质量损失较小,表明这种涂层具有较明显的防护效果.经AO辐照后有机硅涂层表面生成了致密的氧化硅膜层,对抑制AO的进一步侵蚀具有关键作用.

关键词: Ag , 原子氧 , 侵蚀 , 防护

原子氧对聚酰亚胺表面侵蚀及有机硅涂层保护

张蕾 , 严川伟 , 屈庆 , 李美栓 , 曹楚南 , 孙刚 , 童静宇

腐蚀学报(英文) doi:10.3969/j.issn.1002-6495.2002.02.004

用光电子能谱(XPS)、红外光谱(FTIR)和扫描电镜(SEM)研究有和无有机硅涂层的聚酰亚胺(Kapton)在模拟原子氧(AO)环境中表面所发生的侵蚀作用.结果表明,AO对Kapton有较严重的侵蚀,原来平整的表面形貌变为毛毯状;而所施用的有机硅涂层的表面形貌则变化甚少,表明该涂层具有较明显的防护效果.这种防护作用在于,有机硅涂层表面经AO辐照后生成了致密的氧化硅膜层,对抑制AO的进一步侵蚀起到了关键作用.

关键词: Kapton 原子氧(AO) 降解 防护

化妆品中阴阳离子的快速测定及其用于化妆品鉴别的研究

高建国 , 王英杰 , 陈世山 , 崔鹤 , 毛旭斌 , 张蕾 , 高玫

色谱 doi:10.3321/j.issn:1000-8713.2004.01.020

用离子色谱电导检测器对黑泥类化妆品中的阴、阳离子(Na+,NH+4,K+,Mg2+,Ca2+,Cl-,Br-,NO-2,NO-3和SO2-4)进行了测定.阳离子分离条件: 阳离子交换柱ICS-C25,均苯四甲酸淋洗液浓度2.0 mmol/L,流速0.6 mL/min;阴离子分离条件: 阴离子交换柱Shim-pack IC-A1,淋洗液为2.5 mmol/L邻苯二甲酸和2.4 mmol/L三羟基氨基甲烷,流速1.0 mL/min.结果表明,上述10种离子在较宽浓度范围内有良好的线性关系,加标回收率为93%~102%.根据离子种类、含量的测定结果可以鉴别化妆品的种类.

关键词: 离子色谱 , 阴离子 , 阳离子 , 化妆品 , 鉴别

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