许小红
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武海顺
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张富强
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张聪杰
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李佐宜
稀有金属材料与工程
通过对溅射过程中辉光放电现象及薄膜沉积速率的研究,发现随着氮浓度的增大,靶面上形成一层不稳定的AlN层,由于AlN的溅射速率远小于Al,从而使薄膜的沉积速率显著下降.同时还研究了其它溅射参数对薄膜沉积速率的影响.结果表明:随靶基距的增大和靶功率的减小,不同程度引起沉积速率的下降;随着溅射气压的增大,最初沉积速率不断增大,当溅射气压增大到一定程度时,沉积速率达到最大值,之后随溅射气压的增大,又不断减小.
关键词:
反应溅射
,
氮化铝薄膜
,
沉积速率
许小红
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张富强
,
武海顺
,
张聪杰
,
李佐宜
无机材料学报
doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2001.06.021
反应溅射制备AlN薄膜时,薄膜的择优取向与众多的实验参数有关.建立晶面择优取向程度与溅射气压、靶基距、靶功率等重要实验参数之间的函数关系,避免了研究每一项参数对薄膜择优取向影响所需的实验次数的繁多,得到制备择优取向程度最佳薄膜的实验参数.同时,通过用该函数关系式计算得到结果与实验结果比较,发现两者具有很好的一致性.这一系列函数关系式的建立,对进一步设计新的实验方案、验证已有的实验结果以及制备良好择优取向薄膜都有着重要意义.
关键词:
氮化铝薄膜
,
实验参数
,
择优取向
,
函数关系