李小红
,
钟涛生
,
付求涯
,
张聚国
电镀与精饰
doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2007.06.004
研究了45#钢表面两种防护层的结合性能和耐蚀性能.结果表明:有机玻璃防护层的结合强度较硅酸盐玻璃的高;随着制备温度和保温时间的增加,硅酸盐玻璃防护层的结合强度先上升后下降,而有机玻璃防护层的结合强度上升后不再变化.冷却方式对硅酸盐玻璃防护层结合强度的影响很大,而对有机玻璃防护层的结合强度无影响.有机玻璃防护层的防腐蚀性能优于硅酸盐玻璃防护层.
关键词:
防护层
,
硅酸盐
,
有机玻璃
,
结合强度
,
耐腐蚀
张聚国
,
付求涯
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2007.04.010
对200目商用铜粉进行球磨处理得到2～8μm细片状铜粉,再进行多次化学镀银处理,得到表面银覆盖率达90%以上的一种高性能镀银铜粉.该镀银铜粉与环氧树脂、固化剂以及其它添加剂合成制得镀银铜粉导电胶,其防铜氧化效果好,电阻稳定且电阻率可达10-4Ω·cm级别,比银导电胶成本低,耐剪切、耐热老化效果好.试验中得到的导电胶连接强度≥12MPa,电阻率为4.8×10-4Ω·cm,在130℃下有较高的抗氧化性能.
关键词:
导电胶
,
连接强度
,
电阻率
,
镀银铜粉
钟建华
,
张聚国
材料保护
doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2006.04.001
为了消除传统的三酸抛光对环境和人体健康的危害,开发了以磷酸-硫酸为基液的无烟化学抛光技术.该技术的关键是在基础液中添加一些具有特殊作用的化合物来替代硝酸,在H3PO4(85%):H2SO4(98%)=(2.5～3.0):1.0,ρ(Al3+)=5～12 g/L,复合添加剂量为3～8 g/L,温度为95～115 ℃,时间为2.5～4.0 min的条件下,可以提高化学抛光质量,抑制铝材的点蚀,减缓全面腐蚀,获得较好的抛光效果.
关键词:
化学抛光
,
抛光剂
,
铝材
,
表面处理
张聚国
,
余向阳
,
刘芳
,
江志平
材料保护
目前以H3PO4H2SO4为基础的两酸无烟化学抛光体系对高硅铝合金的抛光效果不理想.在磷酸+硫酸+双氧水的基础液中,添加一定量的硫酸铁、三氧化二铬以及过硫酸铵,考察了不同质量的添加物对6063高硅铝合金化学抛光效果的影响.采用简单正交试验方式,以试样的反光率及麻点数量表征试样的抛光效果,优选了较优的抛光液成分.结果表明:按硫酸(85％)10 mL、磷酸(95％)20 mL、双氧水2 mL、硫酸铁0.1 g、三氧化二铬0.1 g、过硫酸铵0.1g配制的抛光液抛光效果最佳.
关键词:
化学抛光
,
6063高硅铝合金
,
添加剂
张聚国
,
杨华
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2009.01.018
为了研究了起弧电压、电流密度和氧化时间等参数对铝合金陶瓷膜性能的影响.以LY12铝合金为试验材料,采用MAO240/750微弧氧化设备、TT260测厚仪和AMARY-1000B扫描电子显微镜.结果表明:起弧电压随着Na2SiO3浓度的增加而降低;在相同氧化时间内,随着电流密度的增加,陶瓷膜的厚度也显著地增加,陶瓷膜的致密层的显微硬度也在逐渐地增加,但不是呈线性增加的;在相同电流密度条件下,随着时间的增加,膜层厚度和致密层硬度非线性增加,但致密层所占比例却减小.得出结论:电流密度应该选择在5～20A/dm2的范围内,微弧氧化时间控制在3h以内时比较适宜.
关键词:
微弧氧化
,
铝合金
,
陶瓷膜
,
氧化膜
钟建华
,
张聚国
,
刘金明
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2004.05.011
通过实验验证了稀土具有除气除杂的作用,在0.25%～0.30%之间时,有很好的除气除渣的效果,在实验的基础上研究了稀土对6063铝合金针孔率、强度、硬度、流动性的影响及作用机理,并进行盐雾试验确定了稀土能提高抗腐蚀性的最佳成分是0.3%左右.结果表明:稀土相主要分布在晶界,部分存在晶内;稀土元素的加入量在0.25%左右时铝合金晶粒细化效果最好;能改善机械性能;在0.36%左右时,6063铝合金有很好的流动性.
关键词:
稀土元素
,
6063铝合金
,
性能
张聚国
,
林师朋
,
叶艳君
材料导报
doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2016.04.022
研究了渗硅工艺对 Mo-W-Co 合金组织与性能的影响，通过改变渗硅的渗剂粉末成分和渗硅温度，对渗硅后的合金试样的渗层分别进行金相分析、扫描电镜和 XRD 检测，获得渗硅后的渗层组织及相组成，通过比较渗层厚度及其在600℃的抗氧化性探讨较好的渗硅工艺参数。实验结果表明：渗层主要由 Al2 O3外渗层和 MoSi2与Mo5 Si3内渗层构成；NH4 Cl 与 CaCl2的复合催化作用明显改善渗硅效果；渗层通过自身良好的抗氧化性及耐磨性提高合金的抗氧化性能和耐磨性；抗氧化试验后，氧化皮的主要成分包括 SiO2、MoO3、Al2 O3等；渗 Si 处理最佳渗剂配方为60%Si、25%Al2 O3、10%NH4 Cl、5%CaCl2。
关键词:
渗剂成分
,
渗硅温度
,
渗层厚度
,
抗氧化性能
