孙述利
,
张敏刚
,
周俊琪
,
何文武
,
刘晓峰
,
孙刚
,
柴跃生
机械工程材料
用Gleeble-1500D型热模拟试验机对AZ31镁合金在变形温度200～400℃、应变速率0.01～1 s-1条件下进行热模拟压缩试验,研究了该合金的热变形行为,并获得了其变形的主要特征参数,建立了高温流变数学模型和功率耗散图.结果表明:热压缩时,AZ31镁合金流变应力受温度和应变速率影响显著,应力-应变曲线呈现出明显的动态再结晶特征,温度越高、应变速率越小,动态再结晶越容易发生;热变形过程受变形激活能控制,得到流变应力的关系式Ihε=35.74+9.96In[sinh(0.01σ)]-1.96×105/RT,耗散系数随温度升高和应变速率降低而逐渐增大.
关键词:
AZ31镁合金
,
热变形
,
功率耗散图
张敏刚
,
金志浩
,
郭东城
,
周俊琪
材料研究学报
研究了经过不同热处理的NdFeB系纳米晶复合永磁合金的磁滞行为.根据磁滞回线一阶导数曲线dM/dH-H分析了双相磁体磁滞回线M-H的变化情况. 采用XRD和TEM对各典型回线对应的样品组织结构进行了观测分析.在欠时效和过时效条件下, dM/dH-H曲线均出现双峰,但对应不同的显微组织和不同的机制. 在峰值时效条件下,合金由2:14:1和α-Fe双相组成, dM/dH-H曲线由单峰组成,磁滞回线表现为单相磁体的磁滞行为.
关键词:
纳米晶复合永磁合金
,
null
,
null
闫时建
,
张敏刚
,
田文怀
,
曹林
人工晶体学报
本文用高分辨计算机像模拟(EMS)绘制晶体结构的方法,以锂离子电极材料 LixCoO2 为例,在 LiCoO2[001]和[100]晶向上计算绘制了一系列高分辨模拟像,并对照解释 Li0.70CoO2 高分辨实验像,研究结果表明通过 EMS,有利于在增加对复杂晶体结构的直观认识的基础上指导实验,达到提高材料性能的目的.
关键词:
晶体结构
,
高分辨像模拟
,
LiCoO2
孙述利
,
何文武
,
张敏刚
,
柴跃生
稀有金属
doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2013.04.008
对9Cr-2W耐热合金进行了热变形温度900～1300℃和应变速率0.005 ～5.000s-1条件下热压缩模拟实验,分析该合金热变形应力应变曲线、热变形组织演变,并测试1150和1300℃下的热变形织构.结果表明,9Cr-2W耐热合金热变形软化方式主要与温度有关,在应变速率0.500 s-1时,900～1050℃出现明显加工硬化,为动态回复型；1100 ～ 1200℃动态再结晶新晶粒沿原晶界分布,为不连续动态再结晶型；1250～1300℃沿原晶界出现锯齿形,为几何动态再结晶型.同时,应变速率对热变形软化方式也有一定的影响,随着应变速率的提高,发生不连续动态再结晶温度范围变宽,细化晶粒效果明显.结合9Cr-2W耐热合金变形织构特征,1150℃热变形组织以动态回复为主,织构相对集中,晶粒择优取向强一些；而1300℃℃热变形组织基本为等轴晶粒,发生了完全动态再结晶,相对应织构漫散,择优取向相对弱一些.
关键词:
9Cr-2W耐热合金
,
动态回复
,
几何动态再结晶
,
变形织构
罗小萍
,
吕春翔
,
张敏刚
,
康丽
电镀与涂饰
在碳纤维表面沉积了无钯化学镀Ni-P合金层,通过SEM、XPS、XRD和DSC等分析了Ni-P合金镀层的性能,用Weibull理论分析了Ni-P镀层对碳纤维单丝抗拉强度的影响.结果表明:用无钯化学镀的方法得到的Ni-P合金镀层均匀,结合强度高,耐氧化性好.当镀层厚度为0.15μm时,抗拉强度达到最大值3.11 GPa,是未镀的1.1倍.
关键词:
碳纤维
,
化学镀
,
镍-磷合金
,
无钯活化
,
抗拉强度
马志华
,
柴跃生
,
孙钢
,
张敏刚
兵器材料科学与工程
doi:10.3969/j.issn.1004-244X.2005.02.022
半导体/介质镶嵌纳米复合薄膜具备准零维量子点的特征,这类材料具有三阶光学非线性系数大,响应快,功耗低等特点,在光开关、光存储及全光逻辑运算等领域有着广阔的应用前景.对半导体/介质镶嵌纳米复合薄膜的主要制备方法-射频磁控共溅射法的基本原理及技术特点作了概要介绍.从镶嵌于介质中半导体纳米颗粒非线性光学性质的研究动态入手,分类评述了化合物半导体/SiO2纳米复合薄膜近年来的研究状况,指出了这类复合薄膜的研究重点和发展方向.
关键词:
化合物半导体
,
镶嵌纳米薄膜
,
射频磁控溅射
,
非线性光学性质
柴跃生
,
罗春云
,
张敏刚
,
伍静
人工晶体学报
采用第一性原理平面波赝势方法计算了SiO_2基质包埋不同尺寸纳米晶粒Si_3和Si_5的电子结构及光学性质.结果表明,随着包埋纳米晶粒尺寸的减小,包埋Si_3结构的带隙比包埋Si_5结构宽,但包埋Si_5结构对可见光区的吸收优于包埋Si_3结构.Si_3结构的第一个吸收峰在约3.9 eV处,Si_5结构的第一个吸收峰在约4.6 eV处.计算表明,Si纳米颗粒中Si原子数与包埋基质的分子数之比为45.46%是一种较好的结构参数,对可见光区吸收效果好.
关键词:
第一性原理
,
密度泛函理论
,
价键畸变
,
态密度
张敏刚
,
李敏杰
,
刘丽
,
刘文峰
,
陈峰华
稀有金属材料与工程
采用磁控溅射法制备了Ta/[NdFeB/Nd]／Ta(n=1,5,8,10)多层膜.采用X射线衍射仪、振动样品磁强计及原子力显微镜对薄膜样品的晶体结构、磁学性能及表面形貌进行了测试分析;并对薄膜的温度稳定性进行了测试.结果表明,在NdFeB与Nd的总厚度保持不变的情况下,随NdFeB/Nd层数的增加薄膜的矫顽力先增大后减小,其中n=8时样品磁性能最好.最佳磁性能为Hci=1995 kA/m,(BH)max=111.3 kJ/m3.
关键词:
永磁薄膜
,
相结构
,
矫顽力
,
磁能积
张凯
,
张敏刚
,
刘文峰
,
杨利斌
材料导报
采用直流磁控溅射法,以P型单晶硅为基体材料,通过调整溅射时间制备出不同厚度的NdFeB薄膜.然后对不同厚度的薄膜运用相关仪器进行表征,结果表明,NdFeB薄膜厚度随着溅射时间的延长呈现近似线性增加,不同溅射时间段的沉积速率近似相同.矫顽力随着薄膜的厚度和Nd含量的增加而增加,薄膜中F的含量由84.01％降至81.65％,Nd含量由10.73％升至13.10％,B含量在5.25％～5.38％范围内浮动.
关键词:
磁控溅射
,
NdFeB薄膜
,
表面形貌
,
磁性能
