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Al2O3衬底上生长的40.2K转变温度的MgB2厚膜

张开成 , 丁莉莉 , 庄承钢 , 陈莉萍 , 陈晋平 , 冯庆荣

低温物理学报 doi:10.3969/j.issn.1000-3258.2006.02.023

我们采用混合物理化学气象沉积方法(简称HPCVD)方法在(0001)晶向的Al 2O 3衬底上成功的沉积了1.3微米厚的MgB 2超导厚膜.电性测量表明这种厚膜具有40.2 K的超导转变温度,转变宽度为0.15 K,绝对零度时 H c 2(0)为13.7 T,同时剩余电阻率达到RRR = 11.磁性测量表明这种厚膜在5 K和零场的条件下具有5×10 6A/cm 3的高临界电流密度.

关键词: MgB2超导厚膜 , R~T曲线 , SEM图 , M~T曲线

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