李成明
,
孙晓军
,
张增毅
,
唐伟忠
,
吕反修
材料科学与工艺
doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2004.03.012
讨论利用直线型过滤电弧制备TiAlN薄膜中,过滤磁场作用于弧斑、靶中毒现象,电子和离子的回流和叠加偏压等因素影响作用的大小进行了实验分析.结果表明,磁场对弧斑分裂和弧斑运动速度的综合作用最为显著是由于直线型过滤电弧形成的瓶颈磁场造成的电子和离子的回流,以及直流叠加脉冲偏压形成的放电空间的等离子体磁撞,分解和离化的所起的共同作用的结果.这对于控制电弧离子镀沉积薄膜中的颗粒尺寸和颗粒密度,指定合理的工艺参数有一定的指导作用.
关键词:
过滤电弧
,
沉积
,
磁场
李成明
,
孙晓军
,
张增毅
,
唐伟忠
,
吕反修
材料热处理学报
doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2003.04.013
用磁过滤电弧制备了ZrN和ZrN/TiN多层膜,磁控溅射制备了ZrN薄膜.结果表明,ZrN/TiN多层膜,由于纳米多层化作用,硬度高于ZrN和TiN的26GPa和21GPa,平均值达到34.5GPa.X射线衍射分析表明,ZrN/TiN多层膜由ZrN和TiN组成.过滤电弧制备的ZrN和ZrN/TiN多层膜的结合力为81N和77N,磁控溅射制备的ZrN薄膜的结合力为26N.极化曲线的结果显示,过滤电弧制备的ZrN和ZrN/TiN多层膜的耐腐蚀性显著优于磁控溅射制备的ZrN薄膜,讨论了两种方法制备薄膜性能差异的原因.
关键词:
硬度
,
多层薄膜
,
耐腐蚀性
