杨海刚
,
宋桂林
,
张基东
,
王天兴
,
常方高
人工晶体学报
采用直流反应磁控溅射方法制备了纳米WO3薄膜,研究了溅射气压对WO3薄膜的表面形貌和微结构的影响.利用X射线衍射仪和扫描电子显微镜对WO3的微结构进行了表征.采用紫外-可见分光光度计和循环伏安测试系统对样品的电致变色及响应时间性能进行了研究.结果表明,纳米WO3薄膜的微孔结构特征具有较大的比表面积,有利于改善其电致变色性能.当溅射气压为4Pa时,WO3薄膜在可见光区的电致变色平均调色范围达到了71.6％,并且其着色响应时间为5 s,漂白响应时间为16 s.
关键词:
WO3薄膜
,
磁控溅射
,
电致变色
,
响应时间
杨海刚
,
詹华伟
,
张基东
,
曹伟伟
,
宋桂林
,
常方高
人工晶体学报
采用磁控溅射法在单层玻璃基片上制备了由多层薄膜构成的电致变色元件,通过XRD、SEM等对薄膜及元件的晶体结构、表面形貌等进行了表征分析.采用可见光透射谱,研究了元件的电致变色性能.结果表明,较低的基片温度和较大的靶基距是采用磁控溅射制备电致变色元件的两个很重要的因素.所制备的全薄膜电致变色元件在处于漂白态和着色态时,对可见光的透过率分别达到了47.19％和15.67％,对光的透射率调节范围为31.52％.该全薄膜电致变色元件在电致变色智能窗领域具有较大的应用潜力.
关键词:
电致变色元件
,
透射率调节
,
ITO
,
磁控溅射
