孙柏
,
李锐鹏
,
赵朝阳
,
徐彭寿
,
张国斌
,
潘国强
,
陈秀芳
,
徐现刚
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2008.00753
利用脉冲激光淀积(PLD)技术在6H-SiC单晶衬底上制备了ZnO薄膜. 利用X射线衍射(XRD), 反射式高能电子衍射(RHEED)和同步辐射掠入射X射线衍射(SRGID)φ扫描等实验技术研究了ZnO薄膜的结构. 结果表明:在单晶6H-SiC衬底上制备的ZnO薄膜已经达到单晶水平, 不同入射角的SRGID结果, 显示了ZnO薄膜内部不同深度处a方向的晶格弛豫是不一致的, 从接近衬底界面处到薄膜的中间部分再到薄膜的表面处, a方向的晶格常数分别为0.3264、0.3272和0.3223nm. 通过计算得到ZnO薄膜的泊松比为0.504, ZnO薄膜与单晶6H-SiC衬底在平行于衬底表面a轴方向的实际晶格失配度为5.84%.
关键词:
脉冲激光淀积
,
ZnO
,
SiC
,
X-ray grazing incidence diffraction
孙柏
,
李锐鹏
,
赵朝阳
,
徐彭寿
,
张国斌
,
潘国强
,
陈秀芳
,
徐现刚
无机材料学报
doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2008.04.024
利用脉冲激光淀积(PLD)技术在6H-SiC单晶衬底上制备了ZnO薄膜.利用X射线衍射(XRD),反射式高能电子衍射(RHEED)和同步辐射掠入射X射线衍射(SRGID)φ扫描等实验技术研究了ZnO薄膜的结构.结果表明:在单晶6H-SiC衬底上制备的ZnO薄膜已经达到单晶水平,不同入射角的SRGID结果,显示了ZnO薄膜内部不同深度处α方向的晶格弛豫是不一致的,从接近衬底界面处到薄膜的中间部分再到薄膜的表面处,α方向的晶格常数分别为0.3264、0.3272和0.3223nm.通过计算得到ZnO薄膜的泊松比为0.504,ZnO薄膜与单晶6H-SiC衬底在平行丁衬底表面α轴方向的实际晶格失配度为5.84%.
关键词:
脉冲激光淀积
,
氧化锌
,
碳化硅
,
掠入射X射线衍射
钟玖平
,
梁宏斌
,
林惠红
,
韩冰
,
苏锵
,
张国斌
,
符义兵
中国稀土学报
用高温固相法合成了NaLn(PO3)4:1.0%(原子分数) Ce3+(Ln=La, Gd)两种粉末发光材料,在合肥国家同步辐射实验室(NSRL)测得两种样品中Ce3+的真空紫外光谱. 根据真空紫外光谱图,得到了两种稀土偏磷酸盐中所掺Ce3+离子5d轨道的能级分裂图. 结合NaLa(PO3)4和NaGd(PO3)4的单晶结构数据,发现随着Ln-O平均键长的减小,Ce3+离子5d轨道的晶场劈裂(εcfs)、重心位移(εc)和总的红移(total redshift,D)均增大. 根据配体极化模型,计算了两种化合物中掺杂Ce3+离子的有效平均键长(Reff)和光谱极化率(αsp),发现随着平均键长Rav(Ln-O)变短,Ce3+离子的光谱极化率(αsp)也随之减小.
关键词:
Ce3+离子
,
真空紫外光谱
,
光谱极化率
,
稀土
沈雷军
,
赵增祺
,
李波
,
周永勃
,
张国斌
,
高乐乐
,
王忠志
稀土
doi:10.3969/j.issn.1004-0277.2011.01.008
经高温固相反应合成YVO4:xEr3+(x=0.001,0.003,0.005,0.007,0.01,0.03,0.05,0.07,0.09,0.1摩尔比)绿色系列粉末状发光材料.经X射线衍射分析产物为单相,属四方锆英石结构.检测了材料的真空紫外激发光谱和发射光谱.发现,YVO4:xEr3+(x=0.001,0.003,……,0.1摩尔比)的真空紫外激发光谱,在120nm～350nm范围内形成若干个连续的带状峰,应该归属于VO3-4离子团的吸收带.在紫外和真空紫外激发下,样品的发射光谱均产生两个明显的锐锋,峰值在523nm和552nm附近,分别对应于Er3+离子的2H1/2→4I15/2,4S3/2→4I15/2跃迁;其中4S3/2→4I15/2的跃迁明显强于2H11/2→15/2.随着Er3+含量X由0.001增加到0.003,YVO4:xEr3+发射光谱强度逐渐增加到最大值,之后随着x继续增加发射光谱强度逐渐下降,呈现明显的浓度猝灭现象.
关键词:
YVO4:xEr3+
,
真空紫外
,
发光
王忠志
,
沈雷军
,
李波
,
高乐乐
,
周永勃
,
赵静
,
张国斌
中国稀土学报
doi:10.11785/S1000-4343.20130407
采用高温固相法成功合成了Y(V,P)O4:Ta荧光粉,并利用XRD,激发光谱和发射光谱对所合成粉体的物相结构及发光性能进行了表征.实验结果表明:粉体的结构属于锆英石结构;粉体在310 nm波长的激发下,发射光谱的主峰位于450 nm,属于Ta5+的3p63d10→3p53d104d1跃迁,当n(V)/n(P)为0.3/0.7和Ta5+的摩尔掺杂浓度为0.01时,粉体的发光性能最佳;用不同浓度NH4 NO3做助熔剂制备YV0.3 P0.7 O4:Ta0.015+荧光粉,发现NH4NO3的摩尔浓度为5％时,粉体的发光强度最强.
关键词:
YVxP1-xO4∶Tax蓝色荧光粉
,
近紫外光激发
,
发光性能
,
制备
,
稀土
王卫
,
李承祥
,
盛六四
,
张国斌
,
王淑芬
材料导报
脉冲激光沉积(PLD)技术是一门新兴的薄膜制备技术,在无机薄膜的制备和研究方面取得了令人满意的成果,技术也比较成熟.但利用脉冲激光沉积技术制备和研究有机膜方面的工作开展较晚,工作也比较少,尚未形成一个比较系统的体系.因此开展有机薄膜的脉冲激光沉积研究将具有重要的意义.
关键词:
脉冲激光沉积
,
有机薄膜
,
有机杂化膜
,
复合薄膜
王卫
,
李承祥
,
盛六四
,
张国斌
绝缘材料
doi:10.3969/j.issn.1009-9239.2007.03.012
用傅立叶变换红外光谱和紫外-可见吸收光谱对制备的醋酸铕(Eu(Ac)3)与聚酰亚胺(PI)杂化材料(PI/Eu(Ac)3)进行了表征,结果表明,Eu3+离子与聚酰亚胺中的O,N发生配位;用XRD分析结果显示,PI/Eu(Ac)3杂化材料为无定形态,且Eu(Ac)3未团聚形成晶相.该材料综合了无机材料和有机材料的性能互补,在光学,电学,磁学,平板显示等领域有着广阔的应用前景.
关键词:
醋酸铕
,
聚酰亚胺
,
杂化材料
,
傅立叶变换红外光谱
,
紫外-可见吸收光谱
王非
,
张一敏
,
黄晶
,
刘涛
,
赵杰
,
张国斌
稀有金属
doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2013.04.018
研究了氟化钙参与石煤提钒过程的浸出行为,浸出条件为95℃,4h,1ml·g-1,15％(体积分数)硫酸和5％(质量分数)氟化钙.在此条件下钒的浸出率可达到92.39％.通过对石煤原矿进行电感耦合等离子体原子发射光谱分析(ICP-AES)、钒价态分析和X射线衍射(XRD)分析,对浸出液进行ICP-AES、X射线光电子能谱(XPS)、19F液相核磁共振(NMR)以及对浸出渣进行XRD和扫描电镜(SEM)分析,整个浸出过程可总结为:氟化钙与硫酸反应生成氢氟酸,氢氟酸对含钒矿物的强破坏性促进钒浸出过程；方解石消耗部分硫酸而生成石膏并释放出二氧化碳；绿泥石和含钒矿物金云母均被完全破坏而释放出V,Al,K,Mg,Si等.氟离子参与钒浸出反应后生成[AlF5]2-和[SiF6]2-络合离子而存在于浸出液中.在强烈搅拌过程中释放出的V(Ⅲ)被空气中的氧气氧化为VO2+而存在于浸出液中.释放出的Al部分以Al3+存在于浸出液中,另一部分与F生成[AlF5]2-.释放出的Si部分以石英(SiO2)形式留存于浸出渣中,另一部分与F生成[SiF6]2-.正是因为生成的Al-F和Si-F比原有Al-O和Si-O的键能大,钒浸出过程最终会趋向于生成稳定的[SiF6]2-和[AlF5]2-,从而使得整个浸出体系更为稳定,钒浸出更为容易.
关键词:
钒
,
石煤
,
氟化钙
,
[SiF6]2-
,
[AlF5]2-
张国斌
,
张一敏
,
黄晶
,
刘涛
,
王非
,
王一
稀有金属
doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2013.06.016
以江西某地石煤为原料,采用直接酸浸—萃取—反萃—沉钒—煅烧的工艺进行萃余液循环利用实验,对石煤提钒萃余液循环利用过程中V浸出率、V萃取率,萃取现象,V2O5产品质量与萃余液循环次数之间的关系及杂质元素Al,K,Ca,Mg,Fe,Si在萃余液循环利用过程中的行为进行了研究.研究表明:萃余液的循环利用对V浸出率、V萃取率,萃取现象及V2O5产品质量的影响不大,在萃余液循环利用过程中,V的浸出率在92％～ 94％之间波动,V的一级萃取率在75％～78％之间波动,萃取现象正常,V2O5产品的品位始终大于98％;萃余液未循环时,浸出液中的Al,K,Ca已饱和,过饱和的Al,K以KAl(SO4)2(H2O)12的形式析出进入浸出渣中,过饱和的Ca以CaSO4的形式析出进入浸出渣中,使得萃余液循环过程中浸出液、萃原液、萃余液中Al,K,Ca的含量在第一次循环时急剧增加,随后增加趋势减缓,最终保持稳定;浸出液、萃原液、萃余液中Mg,Fe的含量随萃余液循环次数的增加逐渐累积,累积至一定程度后趋于稳定;浸出液、萃原液、萃余液中Si的含量在萃余液循环利用过程中基本不累积.
关键词:
石煤
,
萃余液
,
萃取
,
循环利用
王卫
,
李承祥
,
张国斌
,
盛六四
材料导报
聚酰亚胺是当前耐热等级最高的高分子材料之一,具有优良的性能,在航空航天、微电子、大规模集成电路、汽车制造业等领域具有广阔的应用前景.深入研究聚酰亚胺的合成条件和结构性能对于制备高性能的高分子材料有着重要的意义.以均苯二酐(PMDA)和4,4′-二氨基二苯醚(ODA)为单体,采用化学方法合成聚酰亚胺,利用红外光谱和紫外-可见吸收光谱对不同亚胺化温度的聚酰亚胺进行了分析研究.
关键词:
聚酰亚胺
,
FTIR
,
紫外-可见吸收光谱
