张俊良
,
张思佳
,
翁红明
,
于晓辉
,
张巍
,
杨留响
,
刘清青
,
冯少敏
,
望贤成
,
禹日成
,
曹烈兆
,
张首晟
,
戴希
,
方忠
,
靳常青
低温物理学报
通过高压电阻测量，发现了拓扑绝缘体化合物BizTe3压力诱导的超导性，在3-6GPa的压力范围内，超导临界温度L约为3K．高压下原位同步辐射的结果证明这个超导相来源于常压相结构．通过霍尔效应的测量，发现超导的Bi2Te3样品的载流子为P型．对高压同步辐射结果Reitveld精修得到的晶格参数和原子位置，并以此进行第一性原理计算，得到的高压下的电子结构仍然保持其拓扑不平凡性．由于Bi2Te3的体超导态和Dirac型的表面态之间的近邻效应，可以出现拓扑超导性．文章也讨论了其体态为拓扑超导体的可能性．
关键词:
拓扑绝缘体
,
高压
,
超导性
,
Bi2Te3
李蜜
,
黄胜利
,
吕章明
,
张俊良
,
吴会燕
,
阮可青
低温物理学报
doi:10.3969/j.issn.1000-3258.2008.04.013
通过X射线衍射,拉曼散射和红外光谱,研究了多晶Pr1-xSr1+x CoO4不同掺杂(x=0～0.5)的晶体结构.随着锶掺杂量的增加,拉曼散射谱的变化规律归因于沿c轴方向电声相互作用的增强.而红外强度随频率的相反变化来自ab面内电声相互作用的减弱.电阻率及热电势随掺杂量的增加发生了显著的变化,这是由于载流子浓度的增加.对于Pr1-xSr1+x CoO4样品,拉曼散射,红外吸收谱及电阻表现出特殊的性质.
关键词:
X射线衍射
,
拉曼散射
,
红外吸收光谱
,
电声子相互作用
张俊良
,
王志强
连铸
doi:10.13228/j.boyuan.issn1005-4006.20130085
自太钢开展信息化建设以来,公司要求对财务成本的控制日益精细化.钢厂多连浇投料成本分摊作为生产管理中的重要环节,计算结果的准确程度直接影响下游厂的成本结算.钢厂使用的计算逻辑是针对单炉订单来分摊,而多炉连浇投料成本的分摊是个空白.如果多连浇原料成本不正确,会导致不锈热轧厂使用钢厂中卷板后物料成本产生不应该有的差异,不符合企业成本精细化控制的要求.因此,针对多连浇这种普遍发生的问题进行了彻底的系统改造,首次建立了按浇次分摊订单原料成本的模式,并且给出了精确的分摊成本计算公式以使订单原料成本准确化.
关键词:
钢厂
,
多炉连浇
,
浇次
,
投料成本
,
成本分摊
,
生产订单
张俊良
,
赵启亮
,
钟庆东
,
郭炜
腐蚀与防护
doi:10.11973/fsyfh-201612006
采用扫描电化学显微镜(SECM)分析技术、电化学阻抗谱(EIS)和电容-电位测试研究了镀锌层表面钝化膜在质量分数5％ NaCl溶液中的腐蚀降解过程和半导体行为.结果表明:浸泡过程中随着水和离子逐渐侵入钝化膜,钝化膜发生着缓慢的腐蚀降解,钝化膜在浸泡初期保持稳定,能够对基体金属起到较好的保护作用;钝化膜表现出n型半导体特征,随着浸泡时间的延长,Mott-Schottky曲线拟合直线的斜率逐渐减小,钝化膜载流子密度逐渐增大,表明钝化膜在浸泡过程中发生缓慢的腐蚀降解.
关键词:
扫描电化学显微镜
,
钝化膜
,
腐蚀降解
,
Mott-Schottky曲线
赵启亮
,
张俊良
,
钟庆东
,
郭炜
,
史茜
腐蚀与防护
doi:10.11973/fsyfh-201701004
在镀锌钢板基体上制备了硅烷膜和Ceo2纳米颗粒改性γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷膜.采用电化学阻抗谱(EIS)技术研究了水解液中甲醇和CeO2纳米颗粒加入量对钝化膜电化学性能的影响;采用扫描电子显微镜(SEM)观察n种硅烷膜的微观形貌和结构.结果表明:甲醇含量对硅烷水解有重要影响,当甲醇含量为10％(质量分数)时,制得硅烷膜的阻抗最大,为1×103.7 Ω·cm2,单纯纳米颗粒CeO2的添加对钝化膜的耐蚀性影响不大.
关键词:
硅烷
,
电化学阻抗谱
,
耐蚀性
,
钝化膜
郭炜
,
史茜
,
钟庆东
,
赵启亮
,
张俊良
腐蚀与防护
doi:10.11973/fsyfh-201705012
采用真空电磁感应熔炼制备了Fe-8Al合金,采用80％、70％、63％和50％轧制压下量制成合金板材,最后对4种Fe-8Al合金板材进行900℃退火保温10 min后水冷的热处理.采用扫描电子显微镜(SEM),拉伸试验和电化学试验对4种Fe-8Al合金板材的性能进行分析.结果表明:随着轧制压下量的增大,Fe-8Al合金板的晶粒尺寸逐渐减小;轧制压下量为80％时Fe-8Al合金板材的综合力学性能最好;轧制压下量为63％时Fe-8Al合金在5％(质量分数)Na2 SO4溶液中的耐蚀性最好.80％为Fe-8Al合金轧制工艺制度的最佳轧制压下量.
关键词:
Fe-8Al合金
,
轧制工艺
,
显微组织
,
力学性能
,
电化学性能
