欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

  • 论文(8)
  • 图书()
  • 专利()
  • 新闻()

等离子体改性1Cr18Ni9Ti不锈钢钝化膜的耐蚀性

雷明凯 , 袁力江 , 孔常静 , 张仲麟

中国腐蚀与防护学报

等离子体改性1Cr18Ni9Ti不锈钢钝化膜的耐蚀性雷明凯,袁力江,孔常静,张仲麟(大连理工大学大连116024)电子回族共振(ECR)微波等离子体具有高电子密度和离化率,低放电粒子溅射率及无极放电设计等优点[1-2],为金属钝化膜的改性提供了有效和便利的手段。本文报导利用ECR微波氮等离子体轰击1Cr18Ni9Ti不锈钢钝化膜进行表面改性的技术和结果。其耐蚀性采用动电位阳极极化曲线评定;钝?...

关键词: null , Surface modification , Passive film

等离子体源离子渗氮合成硼碳氮薄膜的研究

雷明凯 , 袁力 , 张仲麟 , 马腾才

无机材料学报

采用等离子体源离子渗氮,即低能(1-3keV)、超大剂量(1019~1020ions.cm-2)氮离子注入-同步热扩散技术,在300~500℃处理碳化硼薄膜,合成了硼碳氮三元薄膜.俄歇电子能谱和漫反射富氏变换红外光谱分析表明,合成的硼碳氮薄膜是碳硼比固定,氮含量可控的非晶态薄膜.300℃渗氮的薄膜由sp~2型的硼、碳、氮微区构成,而500℃渗氮的薄膜则由sp3sp2型复合的微区组成.较高的渗氮工艺温度促进sP3型结构的形成,渗氮工艺时间对薄膜结构的影响不显著.

关键词: 等离子体源离子渗氮 , null

钢的等离子体基低能离子注入的传质机制

雷明凯 , 朱雪梅 , 袁力江 , 张仲麟

金属学报

等离子体基低能离子注入是一种钢的低温, 低压表面改性方法, 它包括等离子体源离子渗氮和等离子体源离子渗碳两种工艺. 等离子体基低能离子注入的主要传质机制是低能离子注入-同步热扩散, 即在脉冲负偏压作用下的离子首先完成不依赖于工艺温度的低能离子注入, 然后已注入的原子在较低的工艺温度上发生足够的热扩散, 等离子体热扩散吸收具有补充的传质作用, 但由于工艺温度较低, 这种作用很小.

关键词: 离子注入 , null , null , null , null

合成硼碳氮体系薄膜的XPS研究

雷明凯 , 袁力江 , 张仲麟 , 马腾才

无机材料学报

采用 X 射线光电子谱( X P S) 分析300 ~500℃ 等离子体源离子渗氮硼和碳化硼薄膜合成的氮化硼和硼碳氮薄膜利用合成薄膜成分可控的特点, 研究 B、 C、 N 对薄膜的 X P S影响结果表明, X P S分析合成氮化硼薄膜能够确定其化学组成, 但不能确定spsp 型键合结构特性; X P S 分析硼碳氮薄膜能够确定其成分和结构特性在较高的工艺温度下, 等离子体源离子渗氮合成的硼碳氮薄膜具有spsp 型复合的键合结构

关键词: 硼碳氮薄膜 , null , null

等离子体源离子渗氮合成硼碳氮薄膜的研究

雷明凯 , 袁力江 , 张仲麟 , 马腾才

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.1999.01.033

采用等离子体源离子渗氮,即低能(1~3 keV)、超大剂量(1019~1020ions.cm-2)氮离子注入--同步热扩散技术,在300~500℃处理碳化硼薄膜,合成了硼碳氮三元薄膜. 俄歇电子能谱和漫反射富氏变换红外光谱分析表明,合成的硼碳氮薄膜是碳硼比固定,氮含量可控的非晶态薄膜. 300℃渗氮的薄膜由sp2型的硼、碳、氮微区构成,而500℃渗氮的薄膜则由sp3和sp2型复合的微区组成. 较高的渗氮工艺温度促进sp3型结构的形成,渗氮工艺时间对薄膜结构的影响不显著.

关键词: 等离子体源离子渗氮 , 硼碳氮薄膜

等离子体源增强磁控溅射沉积Al2O3薄膜研究

雷明凯 , 袁力江 , 张仲麟

无机材料学报

采用电子回旋共振微波等离子体源增强磁控溅射沉积氧化铝薄膜.X射线光电子谱和X射线衍射分析表明,在600℃沉积温度下,Si(100)基片上获得了亚稳的具有化学计量配比成分、面心立方结构的γ-Al2O3薄膜.薄膜的折射率为1.7,与稳定的α-Al2O3体材料相当.

关键词: 氧化铝薄膜 , plasma source , magnetron sputtering , refractive index

等离子体源增强磁控溅射沉积Al2O3薄膜研究

雷明凯 , 袁力江 , 张仲麟

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2002.04.042

采用电子回旋共振微波等离子体源增强磁控溅射沉积氧化铝薄膜.X射线光电子谱和X射线衍射分析表明,在600°C沉积温度下,Si(100)基片上获得了亚稳的具有化学计量配比成分、面心立方结构的γ-Al2O3薄膜.薄膜的折射率为1.7,与稳定的α-Al2Os体材料相当.

关键词: 氧化铝薄膜 , 等离子体源 , 磁控溅射沉积 , 折射率

出版年份

刊物分类

相关作者

相关热词