廖国
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王冰
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张玲
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牛忠彩
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张志娇
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何智兵
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杨晓峰
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李俊
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许华
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陈太红
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曾体贤
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谌家军
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2011.06.024
采用直流磁控溅射沉积技术在不同工作气压下制备Mo膜,研究了工作气压对Mo膜的沉积速率、表面形貌及晶型结构的影响规律,研究表明:工作气压在0.1～0.5 Pa范围内,沉积速率基本保持不变,在0.5～1.5 Pa范围内沉积速率随工作气压的升高而增大；Mo膜的表面粗糙度随工作气压的升高而增加；不同工作气压下制备的Mo膜为立方结构,在较低工作气压下薄膜结晶性能较好.
关键词:
直流磁控溅射
,
Mo薄膜
,
工作气压
,
沉积速率
,
表面形貌
廖国
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何智兵
,
杨晓峰
,
陈太红
,
许华
,
李俊
,
谌加军
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2011.04.011
采用直流磁控溅射方法在不同工作气压下制备了Bi薄膜,对薄膜的晶体结构、沉积速率、表面形貌和生长模式进行了研究,并对其晶粒尺寸的变化规律进行了分析.X射线衍射(XRD)结果表明Bi薄膜均为多晶斜六方结构.研究发现沉积速率随工作气压的升高先增大后减小.扫描电镜(SEM)图像显示随着工作气压的升高,小晶粒尺寸增大、大尺寸晶粒逐渐消失,薄膜变得疏松多孔；薄膜经历柱状-节榴状-楔形3种生长方式.
关键词:
直流磁控溅射
,
Bi薄膜
,
工作气压
,
沉积速率
,
表面形貌
