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溅射工艺对GdTbFeCo薄膜磁光性能的影响

郭继花 , 黄致新 , 崔增丽 , 杨磊 , 邵剑波 , 朱宏生 , 章平

功能材料

采用射频磁控溅射法在玻璃基片上成功制得了GdTbFeCo非晶垂直磁化膜,研究了溅射工艺对GdTbFeCo薄膜磁光性能的影响.测量结果表明,基片与靶间距为72mm,溅射功率为75W,溅射气压为0.5Pa,薄膜厚度为120nm时,GdTbFeCo薄膜垂直方向矫顽力为477.6kA/m,克尔角为0.413°.

关键词: 射频磁控溅射 , GdTbFeCo , 磁光性能 , 溅射工艺