展晓元
,
张跃
,
顾有松
,
齐俊杰
,
郑小兰
功能材料
采用磁控溅射方法在自然氧化的单晶Si(100)基片上制备了FePtAg颗粒薄膜.通过调整靶材的溅射速率、控制掺杂Ag元素的含量,选择适当的热处理工艺,获得了晶粒尺寸约5nm,分布均匀的FePt颗粒薄膜,矫顽力为3.2×105A/m,磁滞回线具有良好的矩形度,薄膜内部无交换耦合作用,适用于高密度磁记录介质材料.
关键词:
FePt薄膜
,
交换耦合
,
磁性能
,
热处理
展晓元
,
张跃
,
顾有松
,
郑小兰
,
张大勇
功能材料
采用磁控溅射方法在自然氧化的单晶Si(100)衬底上制备了双层结构的FePt-X/Ag(X=Ag或Pt)薄膜.以20nm厚的Ag做衬底,可以制备出易磁化轴垂直基片的FePt合金薄膜;Ag在FePt薄膜中优先团聚,不利于控制FePt晶粒的长大,调整Pt的含量可以控制热处理过程中FePt薄膜的晶粒尺度;通过XRD、TEM、VSM对薄膜样品的结构、晶粒尺寸的观察和磁性检测,我们认为FePt合金薄膜有序化转变的最佳热处理温度在400℃;经过500℃热处理,薄膜软硬磁耦合较好,晶粒尺寸约为100nm,有最大的矫顽力1.04×106A/m.
关键词:
FePt薄膜
,
相结构
,
磁性能
,
热处理
展晓元
,
齐俊杰
,
顾有松
,
李建民
,
张跃
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2007.06.003
采用磁控溅射法在自然氧化的单晶Si(100)基底上制备了(FePt/Ag)10多层薄膜,并在10kA/m磁场中进行了不同温度的真空热处理,研究了磁场作用下,不同热处理温度对FePt薄膜有序化转变及磁性能的影响.X射线衍射研究表明,在磁场作用下通过多层膜设计可以比较容易获得垂直生长的易磁化轴;选择适当的热处理温度、降低多层膜中每层膜厚可以制备出晶粒尺寸细小均匀的FePt/Ag垂直磁化薄膜,适用于高密度垂直磁记录介质材料.
关键词:
记录介质
,
结构
,
磁性能
,
热处理
展晓元
,
顾有松
,
张大勇
,
张跃
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2005.04.004
采用磁控溅射方法在自然氧化的单晶Si(100)衬底上制备了纳米结构的Fex Pt100-x(x=30at%～60at%)薄膜.高温XRD分析表明,薄膜在500℃热处理有明显的面心立方FCC结构向面心四方FCT结构转变. 通过VSM、AFM对薄膜样品的磁性检测和晶粒尺度的观察,FePt合金薄膜有序化转变的最佳热处理温度在400～500℃,在这个热处理温度范围内,薄膜软硬磁耦合较好,矫顽力适当(306kA/m),晶粒尺寸约为10nm,适合于做高密度磁记录介质材料.
关键词:
记录介质
,
结构观察
,
磁性能
,
热处理
