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硅晶片抛光用高纯度大粒径硅溶胶的研究

郑典模 , 潘鹤政 , 屈海宁 , 陈骏驰 , 彭静红

硅酸盐通报

本文采用硅粉水解-胶粒整理法制备硅晶片抛光所用硅溶胶,考察了单质硅粉的加入量、反应时间、反应温度、硅溶胶底液浓度、催化剂种类及用量对硅溶胶胶粒平均粒径增长的影响,得到最佳工艺条件:单质硅粉的最佳加入量为25 g、反应时间7h、反应温度80℃、硅溶胶底液的质量浓度为8%、选稀氨水为催化剂、用量为12 mL,在此条件下可制备得到平均粒径为20 nm的硅溶胶产品.经过多次粒子生长可以制备得到适用于硅晶片抛光产业的高纯度大粒径硅溶胶.

关键词: 硅晶片抛光 , 高纯度 , 大粒径 , 硅溶胶

离子交换法制备硅溶胶工艺的优化

郑典模 , 陈创 , 屈海宁

硅酸盐通报

文章讨论以水玻璃为原料,采用正交法和回归模型优化硅溶胶制备工艺.在硅溶胶增长阶段,当硅溶胶滴加液滴加速率0.555 mL/cm3·min,反应时间7h,滴加液与底液用量比20∶1时,所得碱性硅溶胶产品平均粒径在7.7~8.3 nm之间,浓缩后产品中SiO2的质量浓度可达35%,产品存放一年未见凝胶形象,稳定性好.

关键词: 正交法 , 回归模型 , 离子交换法 , 硅溶胶

改良单质硅水解法制备硅溶胶的工艺研究

郑典模 , 屈海宁 , 马纯超

硅酸盐通报

采用改良单质硅水解法工艺,经胶核制备和胶粒生长步骤制备硅溶胶.通过正交试验发现,对硅溶胶胶核平均粒径和硅粉转化率的综合影响因素大小顺序为硅粉加入量>水玻璃加入量>反应温度>反应时间.最优胶核制备条件为:硅粉加入量80 g;水玻璃加入量30 mL;反应温度90 ℃;反应时间6 h.此时得到的硅溶胶胶核粒径:7~9 nm,硅粉转化率:63%~66%,SiO2质量分数:16%~20%,Na2O质量分数:0.5%.经多次胶粒生长,可制得平均粒径20 nm、40 nm、60 nm、80 nm的硅溶胶产品.

关键词: 硅粉 , 水玻璃 , 正交实验 , 硅溶胶

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