张寅
,
王弘
,
尚淑霞
,
王少伟
,
王民
,
齐尚奎
,
刘希玲
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2000.02.015
本文采用化学溶液沉积(CSD)工艺在Si(100)衬底上制备了Bi4Ti3O12铁电薄膜,这种薄膜的X射线衍射(XRD)结果显示其具有较好的结晶性.运用X射线光电能谱仪(XPS)对薄膜的结构进行了研究,分析结果表明,衬底中Si向镀在其上的Bi4Ti3O12膜层内扩散,影响扩散的主要因素是膜厚及退火温度.
关键词:
铁电薄膜
,
化学溶液沉积法
,
X射线光电子能谱
,
Si扩散
杨雪娜
,
王弘
,
张寅
,
姚伟峰
,
尚淑霞
,
周静涛
,
刘延辉
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2004.05.008
随着集成电路的飞速发展,SiO2作为传统的栅介质将不能满足MOSFET器件高集成度的要求,需要一种新型High-k材料来代替传统的SiO2,这就要综合考虑以下几个方面问题:(1)介电常数和势垒高度;(2)热稳定性;(3)薄膜形态;(4)界面质量;(5)与Si基栅兼容;(6)工艺兼容性;(7)可靠性.本文综述了几类High-k栅介质材料的研究现状及存在的问题.目前任何一种有望替代SiO2的栅介质材料都不能完全满足上述几点要求.但是,科学工作者们已经发现了几种有希望的High-k候选材料.
关键词:
High-k材料
,
MOSFET
,
栅介质
,
薄膜
姚伟峰
,
王弘
,
黄柏标
,
许效红
,
杨雪娜
,
周静涛
,
尚淑霞
功能材料
在粒径大小为57～74μm之间的石英空心小球表面成功的镀上一层TiO2薄膜.XRD显示600℃退火时TiO2薄膜结晶性能较好,退火700℃以上开始出现金红石相.镀TiO2薄膜石英空心小球较好的解决了TiO2纳米粉在溶液光降解中易出现的团聚问题.小球衬底的粒径较大,有利于解决TiO2粉状催化剂易出现的难以回收再利用的问题.利用对甲基橙的光降解试验来评估薄膜的催化降解性能,结果表明镀膜小球的光催化性能比TiO2纳米粉的光催化性能要好.
关键词:
石英空心球
,
二氧化钛
,
光降解
杨雪娜
,
黄柏标
,
尚淑霞
功能材料
采用化学溶液沉积法,在Si[100]衬底上制备了掺La的(Bi0.8La0.2)2Ti2O7薄膜,研究了退火温度对薄膜结晶性及电学性能的影响.研究发现,随着退火温度的升高,样品的结晶性越来越好;漏电流密度随之降低,表明绝缘性逐渐增强.实验证明该薄膜具有良好的绝缘性和较高的介电常数.
关键词:
薄膜
,
退火温度
,
X射线衍射
,
电学性质
