杨磊
,
刘涌
,
王慷慨
,
丛炳俊
,
程波
,
陆妍
,
林俊君
,
宋晨路
材料科学与工程学报
doi:10.14136/j.cnki.issn.1673-2812.2015.04.012
透明导电氧化物(TCO)薄膜要求低电阻率和可见光区高透过率.目前最常用的是ITO薄膜存在着有毒、In成本高等难以克服的缺点.NTO薄膜是近年来新发现的一种具备广阔前景的TCO薄膜,但对它的认识还不充分.本文采用APCVD法在玻璃基板上成功制备出了颗粒均匀细小致密的NTO薄膜,探索出最佳反应温度为500℃～550℃,通过高真空退火的方式改善了薄膜晶体质量,光学透过率获得大幅提升,与经过掺杂但未经过H2退火的Nb∶TiO2薄膜和经过H2退火但未掺杂的TiO2薄膜相比较,经过掺杂和H2退火的Nb∶ TiO2薄膜其电学性能得到明显改善.
关键词:
透明导电氧化物薄膜
,
常压化学气相沉积
,
晶体质量
,
光电性能
徐天华
,
宋晨路
,
刘涌
,
韩高荣
材料科学与工程学报
doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2006.01.032
本文通过光线追踪算法结合基于麦克斯韦方程解的蒙特卡洛方法,模拟了光在梯度折射率指数硅/非晶硅(C-Si/a-Si)复合薄膜中的传播情况.文中将梯度折射率指数薄膜考虑成多层均匀折射率薄膜的叠加,每一层的折射率由该层所在位置决定.通过对透射、反射光子在梯度折射率指数薄膜中运动的统计研究,讨论梯度折射率指数薄膜的减反射性能.模拟结果获得了薄膜中粒子的浓度、粒子直径大小以及折射率梯度变化对薄膜反射率的影响规律,这有助于低反射率薄膜的设计,以期解决目前较为引人关注的镀膜玻璃光污染问题.
关键词:
蒙特卡罗方法
,
光线追踪算法
,
梯度折射率薄膜
高倩
,
李喆
,
李铭
,
刘涌
,
宋晨路
,
韩高荣
材料科学与工程学报
采用介质阻挡放电化学气相沉积（DBD-CVD）法制备TiO2透明自清洁功能薄膜,选用四异丙醇钛（TTIP）、NH3作为反应先驱体,另外再加入一定量的N2、Ar或者He作为稀释气体控制气体的流量和流速。通过对其进行X射线衍射、紫外-可见光谱、X光电子能谱、场发射扫描电镜、光催化性质、光亲水性质等测试表明,过DBD-CVD方法制备TiO2薄膜,只存在锐钛矿相,氮掺杂改变了薄膜中锐钛矿相晶粒生长的取向,从而影响薄膜的表面微观结构,促使光吸收限红移,提高了薄膜在可见光照射下的光催化效率,并改善了薄膜表面的亲水性能。
关键词:
TiO2薄膜
,
介质阻挡放电化学气相沉积(DBD-CVD)
,
表面微观结构
,
掺N
,
光催化性
,
亲水性
朱建强
,
刘涌
,
王靖
,
詹宝华
,
宋晨路
,
韩高荣
硅酸盐通报
doi:10.3969/j.issn.1001-1625.2005.06.018
采用APCVD工艺用硅烷和乙烯为原料在620℃沉积硅薄膜.用AFM观察薄膜表面形貌,用SEM扫描截面测量薄膜厚度.FTIR光谱表明薄膜中存在Si-C.研究了C2H4/SiH4摩尔比对膜厚的影响,随着C2H4/SiH4的增大,薄膜的沉积速率降低,表明乙烯掺杂会抑制薄膜生长,同时乙烯的加入减弱了颗粒的异常长大.
关键词:
APCVD
,
硅薄膜
,
乙烯掺杂
,
AFM
,
FTIR
罗方颖
,
宋晨路
材料科学与工程学报
实现表面光电压法(SPV)在大注入水平下的少子寿命测量对表面光电压技术的应用和准确测量具有重要意义.本文计算了P型单晶硅片三种复合机制下注入水平与体寿命及表面复合率的关系.结果表明随着注入水平提高,主导复合机制发生改变,且少子寿命并不是一直随注入水平的增加而增加,而与杂质能级位置有关,表面复合率则恰好相反.为验证计算结果,对P型单晶硅片进行了注入水平可调的少子寿命测试.通过样品表面钝化,分离体表寿命,分别得到了注入水平与少子寿命和表面复合率的实验变化关系.理论计算结果与实验数据在测试范围内一致.
关键词:
少子寿命
,
表面复合率
,
SPV
,
注入水平
吕树欣
,
刘涌
,
宋晨路
,
汪建勋
,
韩高荣
材料科学与工程学报
采用数值模拟方法,对火焰空间和玻璃池窑之间的热耦合模拟可行性进行研究,以玻璃液表面中轴线温度偏差作为比较标准,判断热耦合过程是否收敛。研究结果表明：在六至七次循环迭代后计算结果可收敛,而且热耦合模拟的收敛速度与给定的初始条件有关。建立燃天然气富氧助燃玻璃熔窑模型,与火焰空间、玻璃池窑单独模拟相比,热耦合模拟的结果能够更准确地反映喷枪燃料分布等条件对玻璃液流动情况及温度分布的影响,更为细致全面地模拟出玻璃液表面热传输的不均匀性。
关键词:
火焰空间
,
玻璃液
,
耦合模拟
