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光化学还原-硅钼蓝光度法测定Pd/Al2O3催化剂中的硅

宋建强 , 金娅秋 , 方卫 , 郭帅龙 , 冯璐 , 任传婷 , 戴云生 , 唐春

贵金属

研究了β型硅钼黄的形成及其被乙醇光化学还原为硅钼蓝的影响条件,建立了乙醇光化学还原-硅钼蓝分光光度法测定氧化铝载钯催化剂中硅含量的新方法。结果表明,在810 nm波长处,硅量在0~2μg/mL范围内硅钼蓝吸光度符合朗伯-比耳定律;分取溶解后的催化剂溶液,控制测定试液钼酸铵浓度为5 g/L、盐酸浓度为0.9 mol/L,以乙醇作为光催化还原剂,用UVA紫外灯为光源照射25 min,测定样品中含量为0.1%~1%的硅,RSD=1.43%(n=9),加标回收率98.5%~101%。

关键词: 分析化学 , , 光化学还原 , 硅钼蓝光度法 , Pd/Al2O3催化剂

辉光放电辅助脉冲激光沉积CNx涂层工艺

张青 , 陈传胜 , 宋建强 , 郑晓华

电镀与涂饰

采用直流辉光放电辅助PLD(脉冲激光沉积)法制备了CNx涂层,通过正交试验研究了气压、激光通量、放电功率密度和靶基距等工艺参数对CNx涂层的氮含量、摩擦因数和磨损率的影响,利用扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱仪(XPS)和球-盘式微型摩擦仪对涂层的表面形貌、化学成分以及摩擦学特性进行了表征.结果表明,辉光放电辅助PLD制备的CNx涂层比传统PLD涂层光滑,且工艺参数对涂层表面形貌的影响较小.激光通量对涂层的氮含量、摩擦因数和磨损率的影响较为显著,放电功率密度的影响最小.涂层的耐磨性随涂层氮含量的升高而降低.当气压为12 Pa、激光通量为6.7 J/cm2、放电功率密度为30 mW/cm2和靶基距为37 mm时,涂层中氮原子分数为32.2%,沉积速率为0.83 μm/h,摩擦因数为0.122,磨损率为1.13×10-13 m3/(N.m).

关键词: 氮化碳涂层 , 脉冲激光沉积 , 辉光放电 , 氮含量 , 摩擦因数 , 磨损率

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