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退火对Si(111)衬底上ZnO薄膜的结构和发光特性的影响

汪洪 , 苏凤莲 , 周圣明 , 宋学平 , 刘艳美 , 李爱侠 , 尹平 , 孙兆奇

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2006.03.050

采用磁控溅射法在硅(111)衬底上制备了C轴高度取向的ZnO薄膜,并研究了退火温度和氧气气氛对ZnO薄膜晶体质量、晶粒度大小和光致发光谱的影响.X射线衍射表明,所有薄膜均为高度C轴择优取向,当退火温度低于900℃时,随着退火温度的升高,薄膜的取向性和结晶度都明显提高.室温下对ZnO薄膜进行了光谱分析,退火后的样品均可观测到明显的紫光发射.在一定的退火温度范围内,还可以观测到明显的紫外双峰.空气中退火的样品,当退火温度达到或高于600℃还可观测到绿光发射.实验结果表明,发光峰强度随退火温度和氧气气氛不同而不同,通过改变退火时的温度和氧气气氛可以改变ZnO薄膜的微结构和发光性质.

关键词: ZnO薄膜 , 磁控溅射 , X射线衍射 , 光致发光

Al2O3衬底上生长ZnO薄膜的结构和光学特性

汪洪 , 苏凤莲 , 宋学平 , 刘艳美 , 李爱侠 , 周圣明 , 孙兆奇

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2006.02.022

用脉冲激光沉积法在Al2O3(0001)衬底上沉积了ZnO薄膜.衬底温度分别为300℃、400℃、500℃、600℃和700℃.利用X射线衍射(XRD)和光致发光谱(PL)对薄膜的结构和光学性能进行研究.X射线衍射的结果表明在不同温度下生长的ZnO薄膜均具有高度c轴择优取向,衬底温度400℃时,膜的应力较小质量较高.ZnO薄膜有很强的紫外发光峰,紫外发光峰的强度与衬底温度密切相关,并发现当衬底温度从300℃增到400℃时,紫外发射峰出现6nm的蓝移.

关键词: ZnO薄膜 , 脉冲激光沉积 , X射线衍射 , 光致发光谱

煤-氧-水蒸气-焦炉气联合气化制备直接还原气

郭占成 , 宋学平 , 赵月红 , 段东平

钢铁

进行煤—氧—水蒸气—焦炉气联合气化制备直接还原气或液态燃料合成气的工艺概念设计,并对其关键技术进行热态模拟的基础研究.结果表明,借用高炉炼铁系统可望实现煤—氧—水蒸气—焦炉气联合气化制备H2/CO可调、有效成分H2+CO大于95 %的富氢还原气或化工合成气,为解决直接还原炼铁以及液态燃料合成的原料气指出了一条可能的途径.

关键词: 还原气 , 合成气 , 焦炉气 , 煤气化 , 直接还原

铌表面固体粉末包埋渗硅研究

李明 , 宋力昕 , 乐军 , 宋学平 , 郭占成

无机材料学报

采用固体粉末包埋渗硅工艺在铌表面制备了二硅化铌涂层,研究了渗硅过程中Si沉积的反应机理和二硅化铌涂层的结构.结果表明:涂层由单相的二硅化铌组成;Si的输运和沉积主要依靠硅的低氟化物SiF2完成.

关键词: 渗硅 , coating , niobium , niobium disilicide

Si(111)衬底上ZnO薄膜的磁控溅射法制备及表征

汪洪 , 周圣明 , 宋学平 , 刘艳美 , 李爱侠

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2005.03.021

采用磁控溅射法在(111)单晶硅衬底上沉积了ZnO薄膜,并研究了退火温度对ZnO薄膜晶体质量、晶粒度大小、应力和光致发光谱的影响.X射线衍射(XRD)表明薄膜为高度c轴择优取向.不同退火温度下的ZnO薄膜应力有明显变化,应力分布最为均匀的退火温度为500℃.室温下对ZnO薄膜进行了光谱分析,可观测到明显的紫光发射(波长为380nm左右).实验结果表明,用磁控溅射法在单晶硅衬底上能获得高质量的ZnO薄膜.

关键词: ZnO薄膜 , 磁控溅射 , X射线衍射 , 应力 , 光致发光

铌表面固体粉末包埋渗硅研究

李明 , 宋力昕 , 乐军 , 宋学平 , 郭占成

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2005.03.041

采用固体粉末包埋渗硅工艺在铌表面制备了二硅化铌涂层,研究了渗硅过程中Si沉积的反应机理和二硅化铌涂层的结构.结果表明:涂层由单相的二硅化铌组成;Si的输运和沉积主要依靠硅的低氟化物S讯2完成.

关键词: 渗硅 , 涂层 , , 二硅化铌

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