郑勤
,
江伟辉
,
于云
,
曹韫真
,
于洋
,
米乐
,
宋力昕
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2012.00245
以固相反应法制备了高纯度La0.8Sr0.2MnO3粉体, 并以其为基料, 磷酸二氢铝为粘结剂, 采用涂覆工艺在铝基片上制备了涂料型La0.8Sr0.2MnO3热控涂层. 采用XRD、EDS对La0.8Sr0.2MnO3粉体的成分进行了表征, 用稳态卡计法测量了涂层在-100~100℃温度区间内热辐射率随温度的变化, 并测量了涂层的太阳吸收比. 研究结果表明: 粉体合成过程中, 经过1200℃三次热处理制备的La0.8Sr0.2MnO3粉体纯度高, 合成的粉体具有均匀的微米级粒径尺寸. 通过适当调整浆料中La0.8Sr0.2MnO3粉体所占质量百分比, 获得辐射率变化范围大于0.3的热控涂层, 该性能与采用烧结工艺制备的La0.8Sr0.2MnO3陶瓷片材料在变温条件下的辐射率变化范围接近. 该涂层在航天器热控技术中具有潜在的应用前景.
关键词:
La0.8Sr0.2MnO3
,
smart thermal control coating
,
solid state reaction
郑勤
,
江伟辉
,
于云
,
曹韫真
,
于洋
,
米乐
,
宋力昕
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2012.00245
以固相反应法制备了高纯度La0.8Sr0.2MnO3粉体,并以其为基料,磷酸二氢铝为粘结剂,采用涂覆工艺在铝基片上制备了涂料型La0.8Sr0.2MnO3热控涂层.采用XRD、EDS对La0.8Sr0.2MnO3粉体的成分进行了表征,用稳态卡计法测量了涂层在-100~100℃温度区间内热辐射率随温度的变化,并测量了涂层的太阳吸收比.研究结果表明:粉体合成过程中,经过1200℃三次热处理制备的La0.8Sr0.2MnO3粉体纯度高,合成的粉体具有均匀的微米级粒径尺寸.通过适当调整浆料中La0.8Sr0.2MnO3粉体所占质量百分比,获得辐射率变化范围大于0.3的热控涂层,该性能与采用烧结工艺制备的La0.8Sr0.2MnO3陶瓷片材料在变温条件下的辐射率变化范围接近.该涂层在航天器热控技术中具有潜在的应用前景.
关键词:
La0.8Sr0.2MnO3
,
智能热控涂层
,
固相反应法
彭明栋
,
章俞之
,
宋力昕
,
尹小富
,
王盼盼
,
吴岭南
,
胡行方
无机材料学报
doi:10.15541/jim20160312
通过射频溅射法,常温下制备了纯相WO3和Ti掺杂WO3薄膜,采用XRD、SEM、Raman、电化学工作站、紫外–可见–近红外分光光度计等对薄膜的微观结构、循环稳定性、光学性能进行了表征和分析.研究发现:钛掺杂对WO3薄膜的表面形貌和光学常数影响不明显,但使薄膜的晶化温度升高.电化学测试结果表明,Ti掺杂可以提高离子在薄膜中注入/抽出的可逆性,提高薄膜的循环稳定性,同时薄膜的响应速度和光学调制性能也得到提高,掺杂后薄膜着色态和漂白态的响应时间分别由9.8、3.5 s减小为8.4、2.7 s,因此Ti掺杂WO3薄膜具有更好的电致变色性能.
关键词:
电致变色
,
钛掺杂
,
氧化钨薄膜
,
结构
肖兴成
,
江伟辉
,
彭晓峰
,
宋力昕
,
胡行方
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2000.01.011
本文用射频反应磁控溅射制备了SiCN薄膜,对薄膜的化学成分、结构进行了研究.结果表明,反应气体N2、Si、C三者之间形成了Si-C、Si-N和C-N键,构成了复杂的网络结构.成分分析表明薄膜的化学计量式近似为SiCN.对比分析了反应溅射制备SiCN、CNx、SiNy和SiCz薄膜的FTIR谱.
关键词:
SiCN薄膜
,
结构分析
,
XPS
,
FTIR
杜继实
,
张涛
,
赵丽丽
,
宋力昕
,
胡行方
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2012.12063
空间电离辐照主要由能量连续变化的粒子组成, 绝大多数粒子穿透能力小, 因此, 空间电离辐照对玻璃的着色损伤必然随深度而呈现一种复杂的变化, 针对这一现象, 并且考虑到玻璃中色心的弛豫消失, 本工作建立了一种适用于玻璃空间电离辐照着色损伤动力学研究的方法. 以K9-HL玻璃为研究对象, 利用空间电离辐照作用在玻璃中随深度变化的Monte Carlo模拟结果, 研究了该玻璃在轨(近地点350 km, 远地点425 km, 轨道倾角51.6°)电离辐照着色损伤过程, 讨论了航天器用玻璃抗辐照性能考核方法, 分析了玻璃空间电离辐照着色损伤的深度分布, 提出了航天器用玻璃材料抗电离辐照损伤加固的关键点. 此外, 对不同石英玻璃防电离辐照层保护的K9-HL玻璃在轨光学性能做了研究.
关键词:
玻璃; 空间电离辐照; 色心; 动力学; 数值方法
黄银松
,
章俞之
,
宋力昕
,
胡行方
无机材料学报
通过工艺参数的优化,采用直流反应溅射工艺成功地制备了具有良好的电化学循环稳定性的多晶氧化钨薄膜.Raman散射光谱研究表明:随着锂离子和电子的共同注入,多晶薄膜中的W6+逐渐被还原为W5+.红外反射测试表明:电子注入薄膜后,成为自由载流子,使得氧化钨薄膜表现出一定的金属特性,具有一定的红外反射调制能力.采用该工艺制备的WO3/ITO/Glass结构的发射率可在0.261~0.589的范围内可逆调节.
关键词:
直流反应溅射
,
polycrystalline tungsten oxide films
,
infrared reflectance
,
null
,
null