刘立炳
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赵常就
,
陈范才
,
许岩
,
孙贺民
电镀与精饰
doi:10.3969/j.issn.1001-3849.1999.04.010
简单介绍了新开发的CH钝化工艺及其特点,用恒电量技术对比测试了CH钝化工艺形成的钝化膜和常规钝化膜,CH钝化膜的Rp、Rf值大,Cd、Cf值小;再应用循环伏安法在-1.02~-1.68 V范围进行测试,发现CH钝化膜的循环伏安图经10次循环后仍与第一次的一样.两种测试说明了CH钝化膜比常规钝化膜的耐蚀性高.两种电化学测试的结果与其它方法测试的结果一致.
关键词:
电化学
,
测试
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镀锌
,
钝化膜