周梁
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韩大伟
,
孙泉钦
,
王丹名
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李华
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陈垚
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20153005.0813
在 TFT-LCD 行业,PECVD 设备主要用于 Array TFT 基板工艺中的气相沉积;产生的非金属膜层,为金属电路提供保护、开关作用;在 PECVD 工艺制程中,腔体设计复杂,反应条件苛刻,产生的制程物会造成产品不良,故需要定期进行 PM(pre maintenance 预防性维护)。本文以 PECVD PM 作业为背景,针对设备 PM 耗时长的问题,制定了改善方法,并着重介绍了腔体检漏工具的设计过程。设计制作了一台国产化检漏工具,成功运用于量产。通过测试,检漏工具3 min 内达到10 mT(1 mT=0.133 Pa),漏率为0.45 mT/min,基本符合设备 Spec.(标准)要求。
关键词:
TFT-LCD
,
PECVD
,
腔体检漏工具
,
自主设计