高荣杰
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杜敏
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孙晓霞
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李海涛
腐蚀学报（英文）
采用正交实验筛选出一种含11.0 mass%P自腐蚀电位为-0.35 V的Ni-P、合金镀层作为中间层，与含9.7 mass%P、自腐蚀电位为-0.46 V的Ni-P合金镀层作为表面层，复配成为双镀层.采用PdCl2 稳定性实验检验了镀液的稳定性，用中性盐雾试验、孔隙率试验和扫描电镜对比研究了双层化学镀Ni-P与单层化学镀Ni-P的腐蚀速率和耐点蚀特性.实验结果显示：双层镀Ni-P试样的平均腐蚀速率为7.04μm/a，仅为单层镀试样腐蚀速率28.3μm/a的四分之一，表明双层化学镀Ni-P耐孔蚀性能明显优于单层化学镀Ni-P.
关键词:
化学镀Ni-P
,
null
,
null
马淑芳
,
梁建
,
赵君芙
,
孙晓霞
,
许并社
人工晶体学报
采用热蒸发沉积法,以砷化镓和氧化镓粉末为原料,以氧化铟为催化剂,在800 ℃的氩气气氛中,在(100)砷化镓基片表面上沉积生成GaAs/Ga2O3薄膜.以配有成分分析的场发射扫描电镜(FESEM)、X-射线衍射仪(XRD)、光致发光仪(PL)等测试方法对所得薄膜的成分、形貌、晶体结构和光学性能进行了表征.研究结果表明:薄膜以规整的波浪形均匀地覆盖在砷化镓基片表面上,所得薄膜为GaAs/Ga2O3复合多晶薄膜,光致发光峰为强的红光发射;薄膜的生长机理为固-气-固过程,薄膜中砷元素含量的增加与氧化铟的作用有关.
关键词:
砷化镓
,
薄膜
,
光致发光
,
生长机理
蒲艳丽
,
杜敏
,
高荣杰
,
李恒
,
孙晓霞
电镀与精饰
doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2004.03.007
用五种化学镀工艺制备了Ni-P合金镀层.用动电位极化曲线法比较镀层的耐均匀腐蚀性能,用溶液浇浸法测定了镀层的耐孔蚀性能,并用X-射线衍射仪和扫描电子显微镜分别研究镀层结构和表面形貌.结果表明:工艺2制备的镀层具有较高的耐均匀腐蚀和耐孔蚀性能,属于非晶和微晶组成的混晶结构.并对该工艺进行了正交试验,得到了最优工艺条件.
关键词:
Ni-P合金镀层
,
化学镀
,
非晶态
高荣杰
,
杜敏
,
孙晓霞
,
李海涛
腐蚀学报（英文）
doi:10.3969/j.issn.1002-6495.2007.06.011
采用正交实验筛选出一种含11.0 mass%P自腐蚀电位为-0.35 V的Ni-P、合金镀层作为中间层,与含9.7mass%P、自腐蚀电位为-0.46V的Ni-P合金镀层作为表面层,复配成为双镀层.采用PdCl2稳定性实验检验了镀液的稳定性,用中性盐雾试验、孔隙率试验和扫描电镜对比研究了双层化学镀Ni-P与单层化学镀Ni-P的腐蚀速率和耐点蚀特性.实验结果显示:双层镀Ni-P试样的平均腐蚀速率为7.04μm/a,仅为单层镀试样腐蚀速率28.3 μm/a的四分之一,表明双层化学镀Ni-P耐孔蚀性能明显优于单层化学镀Ni-P.
关键词:
化学镀Ni-P合金
,
双层镀
,
孔蚀
