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表层氮化硅掺氧对单银高透Low-E性能的改善

贾绍辉 , 张淮凌 , 孙徐兴 , 刘涌 , 韩高荣

材料科学与工程学报

低辐射玻璃要求具有低的辐射率和高的可见光透射比.目前较为常见的单银高透Low-E产品具有优良的采光和隔热性能,但是膜层机械性能普遍较差,对于玻璃深加工厂的加工设备要求高.通过对单银高透Low-E表面覆层Si3N4薄膜进行特定比例的掺氧处理,形成Si3NxOy层,改变了膜层表面的特性,增强了其加工的机械性和稳定性,显著提升了单银高透Low-E产品的可加工性.表层改性对于提升单银高透Low-E产品性能,推进其在节能建筑领域的广泛应用具有重要意义.

关键词: Low-E , 氮化硅 , 氧掺杂

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