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电流密度对V-4Cr-4Ti合金基体上电沉积W涂层显微结构的影响

李绪亮 , 张迎春 , 江凡 , 王莉莉 , 刘艳红 , 孙宁波

金属学报 doi:10.3724/SP.J.1037.2013.00042

利用Na2WO4-WO3熔盐体系在V-4Cr-4Ti合金基体上电沉积制备了金属W涂层,在电流密度为10-160 mA/cm2范围内研究了电流密度对金属W涂层的显微结构和力学性能的影响.研究结果表明,增大电流密度促进了W晶核的生长以及晶粒尺寸的增大.W原子更容易在V-4Cr-4Ti合金基体上形核,而在...

关键词: W涂层 , Na2WO4-WO3 , 电沉积 , 电流密度

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