李绪亮
,
张迎春
,
江凡
,
王莉莉
,
刘艳红
,
孙宁波
金属学报
doi:10.3724/SP.J.1037.2013.00042
利用Na2WO4-WO3熔盐体系在V-4Cr-4Ti合金基体上电沉积制备了金属W涂层,在电流密度为10-160 mA/cm2范围内研究了电流密度对金属W涂层的显微结构和力学性能的影响.研究结果表明,增大电流密度促进了W晶核的生长以及晶粒尺寸的增大.W原子更容易在V-4Cr-4Ti合金基体上形核,而在...
关键词:
W涂层
,
Na2WO4-WO3
,
电沉积
,
电流密度