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曹妃甸1号桥钢筋混凝土结构防腐涂装工艺及质量控制

张亮 , 商汉章 , 白桦栋 , 冯刚 , 刘伟 , 徐永祥 , 孙国亮 , 陈雷

涂料工业 doi:10.3969/j.issn.0253-4312.2012.05.015

介绍了唐山曹妃甸1号桥钢筋混凝土结构防腐涂层体系的选择、涂层体系的性能特点、施工工艺要求和涂装质量控制,对北方滨海地区桥梁钢筋混凝土结构的防腐防护涂装有一定的借鉴意义.

关键词: 曹妃甸 , 钢筋混凝土 , 防腐涂装 , 施工 , 质量控制

C/SiO2同轴复合纤维的制备及性能研究

孙良奎 , 程海峰 , 楚增勇 , 周永江 , 孙国亮

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2009.00310

以SiO2溶胶为壳层,聚丙烯腈(PAN)溶液为芯层,采用同轴静电纺丝法制备了PAN/SiO2同轴复合纤维. 经过预氧化,炭化处理,得到1μm的C/SiO2同轴复合纤维. 采用傅立叶红外分析仪(FTIR)、X射线衍射分析仪(XRD)、扫描电镜(SEM)表征了同轴纤维结构和纤维截面形貌,表明利用同轴静电纺丝技术在碳纤维上制备了厚度约20nm的SiO2涂层. 采用网络分析仪研究了同轴复合纤维的吸波性能,纤维质量分数为20%时,同轴复合纤维介电常数实部和虚部均比未涂层碳纤维低. 根据电磁参数采用RAMCAD软件计算了3mm厚材料反射率,在2~18GHz频率范围内,材料的最低反射率达到-17dB,对应的频率为12GHz,<-10dB的带宽为3.3GHz. 热重(DTA-TG)分析表明同轴复合纤维的抗氧化性能较未涂层碳纤维有所提高.

关键词: 同轴复合纤维 , coaxial electrospinning , SiO2 coating , radarabsorbing material

低红外发射率半导体颜料的制备方法与应用现状

孙国亮

电镀与涂饰

论述了低红外发射率半导体颜料研究的必要性,介绍了低发射率半导体颜料的特性、研究进展与制备方法.建议低发射率半导体颜料的研究按以下方面进行:深入研究半导体的掺杂理论,探索半导体颜料掺杂含量对涂料红外性能的影响,不同半导体颜料的制备方法和工艺条件的选择研究,以及不同颜色体系的半导体颜料的合成等.

关键词: 伪装涂料 , 半导体颜料 , 低红外发射率 , 掺杂

C/SiO2同轴复合纤维的制备及性能研究

孙良奎 , 程海峰 , 楚增勇 , 周永江 , 孙国亮

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2009.00310

以SiO2溶胶为壳层,聚丙烯腈(PAN)溶液为芯层,采用同轴静电纺丝法制备了PAN/SiO2同轴复合纤维.经过预氧化,炭化处理,得到1μm的C/SiO2同轴复合纤维.采用傅立叶红外分析仪(FTIR)、X射线衍射分析仪(XRD)、扫描电镜(SEM)表征了同轴纤维结构和纤维截面形貌,表明利用同轴静电纺丝技术在碳纤维上制备了厚度约20nm的SiO2涂层.采用网络分析仪研究了同轴复合纤维的吸波性能,纤维质量分数为20%时,同轴复合纤维介电常数实部和虚部均比未涂层碳纤维低.根据电磁参数采用RAMCAD软件计算了3mm厚材料反射率,在2~18GHz频率范围内,材料的最低反射率达到-17dB,对应的频率为12GHz,< -10dB的带宽为3.3GHz.热重(DTA-TG)分析表明同轴复合纤维的抗氧化性能较未涂层碳纤维有所提高.

关键词: 同轴复合纤维 , 同轴静电纺丝 , 二氧化硅涂层 , 吸波材料

表面处理工艺对片状磁性吸收剂吸波性能的影响

孙国亮 , 郑文伟 , 程海峰

材料导报

首次采用电镀法制备片状磁性吸收剂,用SEM、XRD等手段对其进行表征.为减少吸收剂表面氧化,提高吸收剂吸波性能,采用溶胶-凝胶法和磷化法两种不同的表面处理工艺对吸收剂进行处理.用网络分析仪测试了耒处理吸收剂样品和处理过的吸收剂样品2~18GHz的电磁参数,并对比了其处理前后的SEM照片.结果表明:通过表面处理,片状吸收剂的磁导率有所上升,进而能够提高其吸波性能;比较这两种表面处理工艺,溶胶-凝胶法要优于磷化法.

关键词: 电镀铁 , 片状吸收剂 , 表面处理 , 电磁参数

ATO半导体颜料在伪装涂料中的应用研究

孙国亮 , 陈韬文 , 郑文伟

涂料工业 doi:10.3969/j.issn.0253-4312.2010.05.003

以SnCl4、SbCl3、NaOH等为原料,采用共沉淀法制备ATO半导体颜料,采用XRD、SEM、EDS对颜料结构、成分、形貌进行表征,比较了ATO半导体颜料与常见的单组分颜料涂层红外发射率大小.通过颜色混合规律将ATO半导体颜料与着色颜料混合制备了绿色伪装涂料,制备的涂层具有较低的红外发射率,并且其光谱反射曲线满足美军标的光谱通道要求,具有较好的应用前景.

关键词: 共沉淀法 , ATO半导体颜料 , 红外发射率 , 光谱反射率 , 伪装涂料

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