余超
,
冒守栋
,
汪少杰
,
谢婷婷
,
孙可卿
,
宋振纶
材料导报
采用直流磁控溅射法在铜基底上制备了TiAlN/SiO2选择性吸收薄膜.通过调整制备过程中的工艺参数,得到优化后的组合薄膜(铜基底),其吸收率可达0.92、发射率为0.06.在此组合膜系中,TiAlN为吸收层,SiO2为减反层.对基底为铜片的样品在550℃退火2h,其性质保持稳定,表明TiAlN/SiO2组合薄膜在高湿太阳能选择性吸收领域具有一定的应用前景.
关键词:
选择性吸收薄膜
,
吸收率
,
发射率
,
热稳定性
孙可卿
,
张阳明
,
卢焕明
,
王锡赞
,
程慧华
,
宋振纶
材料科学与工程学报
利用透射电镜(TEM)和X射线小角衍射技术(SAXS)研究了磁场等温退火工艺参数对Alnico8合金的微观组织的影响,样本的晶格结构清晰可见.结果表明,在等温退火阶段Alnico8合金通过调幅分解形成两相结构,棒状的铁磁相(α1相)粒子高度有序地弥散在弱磁性相(a2相)当中.其中,α1相的平均长度由SAXS测得,并与TEM照片数据进行了验证比对.本文着重研究了a1相粒子平均长度随等温退火处理的温度及时间参数的改变规律,结果显示样本的磁性能与其微观结构有一定相关性.
关键词:
Alnico8
,
调幅分解
,
微观结构
