孙景文
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李长生
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李俊茂
,
姚固文
,
姜春华
材料导报
以Ni-Mn-Ga为主要代表的铁磁形状记忆合金(FSMAs)不但具有传统形状记忆合金受温度控制的热弹性形状记忆效应,而且具有受磁场控制的铁磁形状记忆效应.微机电系统(MEMS)的应用要求Ni-Mn-Ga合金必须制备成薄膜的形式.对溅射沉积Ni-Mn-Ga薄膜的制备工艺进行了回顾与总结,对薄膜的各种性能特征和影响因素进行了详细的叙述,最后介绍了溅射沉积Ni-Mn-Ga薄膜的应用状况和应用趋势.
关键词:
磁控溅射
,
Ni-Mn-Ga薄膜
,
铁磁形状记忆合金
,
MEMS
姚固文
,
李长生
,
张晔
机械工程材料
doi:10.3969/j.issn.1000-3738.2007.04.015
采用磁控溅射法制备了MoS2/Ni复合膜,同时对影响膜层性能的工艺参数进行了初步探讨,并对复合膜进行了成分与结构分析以及摩擦试验.结果表明:在本试验工艺参数(本底真空度为7.0×10-4 Pa,沉积气压为0.5 Pa,溅射功率为160 W,溅射氩气流量为80 cm3/s,靶基距为60 mm,基片温度为70℃)下制备的MoS2/Ni复合膜能够大大降低不锈钢等基底表面的摩擦因数,并且在高速重载的条件下具有更低的摩擦因数和更小的摩擦因数波动值.
关键词:
磁控溅射
,
MoS2/Ni复合膜
,
摩擦
